可左右滑动选省市

模头实用新型专利

更新时间:2024-07-01
模头实用新型专利 专利申请类型:实用新型专利;
源自:日本高价值专利检索信息库;

专利名称:模头

专利类型:实用新型专利

专利申请号:CN202180017103.7

专利申请(专利权)人:富士胶片株式会社
权利人地址:日本东京都

专利发明(设计)人:国安谕司

专利摘要:一种模头,其具有并列配置且划定在相邻的模唇与模唇之间输送及吐出涂布液的狭缝的至少2个模唇,上述至少2个模唇包含第1模唇,上述第1模唇位于模唇的并列方向的一端,并且具有出料面、与上述出料面相连的狭缝形成面、及在与上述狭缝形成面相反的一侧与上述出料面相连的外侧面,上述第1模唇的上述出料面的甲基乙基酮动态接触角滞后为20°以下,从沿着上述并列方向的侧面观察时,在上述第1模唇的上述外侧面中的与上述出料面相连的部位具有弯曲面。

主权利要求:
1.一种模头,其具有至少2个模唇,该至少2个模唇并列配置且划定在相邻的模唇与模唇之间输送涂布液并将涂布液吐出到基板上的狭缝,所述至少2个模唇包含第1模唇,所述第1模唇位于模唇的并列方向的一端,并且具有与基材上的涂布液接触的出料面、与所述出料面相连的狭缝形成面、及在与所述狭缝形成面相反的一侧与所述出料面相连的外侧面,所述第1模唇的所述出料面的甲基乙基酮动态接触角滞后为20°以下,从沿着所述并列方向的侧面观察时,在所述第1模唇的所述外侧面中的与所述出料面相连的部位具有弯曲面,所述第1模唇处于上游侧,
所述至少2个模唇包含第2模唇,所述第2模唇位于模唇的并列方向的另一端,并且具有与基材上的涂布液接触的出料面、与所述出料面相连的狭缝形成面、及在与所述狭缝形成面相反的一侧与所述出料面相连的外侧面,该外侧面具有与基材上的涂布液接触的区域,该外侧面的甲基乙基酮动态接触角滞后为20°以下,所述第1模唇的所述出料面及所述第2模唇的所述外侧面具备包含含氟化合物的表层,所述含氟化合物为具有全氟聚醚基和包含键合有水解性基或羟基的硅原子的基团的化合物,“甲基乙基酮动态接触角滞后”是指液滴在固体壁的表面滑落时的前进接触角(θa)与后退接触角(θr)之差[θa‑θr],使用甲基乙基酮的液滴,前进接触角(θa)及后退接触角(θr)通过滑落法测量,在滑落法中,通过在水平配置的固体壁的表面滴加液滴,然后逐渐倾斜上述固体壁,从而测量上述液滴开始滑落时的前进接触角(θa)及后退接触角(θr)。
2.根据权利要求1所述的模头,其中,
所述第1模唇中的所述弯曲面为曲率半径0.5mm以上的弯曲面。
3.根据权利要求1或2所述的模头,其中,
所述第1模唇中的所述弯曲面的甲基乙基酮动态接触角滞后为20°以下。
4.根据权利要求1或2所述的模头,其中,
选自由所述第1模唇的所述出料面及所述弯曲面及所述第2模唇的所述外侧面组成的组中的至少1个面的十点平均粗糙度Rzjis为1.0μm以下。
5.根据权利要求1或2所述的模头,其中,
所述弯曲面具备包含含氟化合物的表层。
6.根据权利要求5所述的模头,其中,
所述含氟化合物为具有全氟聚醚基和包含键合有水解性基或羟基的硅原子的基团的化合物。 说明书 : 模头技术领域[0001] 本发明涉及一种模头。背景技术[0002] 例如,在被涂布物(例如基材)上形成涂布层的方法中,使用具备模头的涂布装置。模头是将形成涂布层的材料吐出的部件。[0003] 在日本特开2002‑248399号公报中记载有一种涂布部件的制造装置,其在一对模唇前端部之间形成涂布液的吐出口,并且在相对于吐出口相对移动的被涂布部件的表面形成涂膜,其中,将位于涂膜的形成侧的下游侧模唇的前端部相对于水的接触角度设为大于上游侧模唇的前端部相对于水的接触角度。[0004] 在日本特开2016‑068047号公报中记载有一种模涂装置,其在将至少含有金属材料的透明导电层形成用涂布液涂布于透明基材上来形成透明导电层时使用,上述模涂装置具有:模头,吐出透明导电层形成用涂布液;涂液槽,容纳透明导电层形成用涂布液;及送液路径,从涂液槽向模头送出透明导电层形成用涂布液,模头至少在位于与涂布方向相反的方向的表面上形成有疏液区域。发明内容[0005] 发明要解决的技术课题[0006] 本发明的一方式所要解决的课题在于,提供一种可快速涂抹,且能够抑制涂布缺陷的产生的模头。[0007] 在此,“快速涂抹”是指,在使用模头的涂布中,对于被涂布物,直到与模头的狭缝宽度对应的宽度为止用于形成涂膜所需的时间短。[0008] 用于解决技术课题的手段[0009] 本发明包括以下方式。[0010] <1>一种模头,其具有并列配置且划定在相邻的模唇与模唇之间输送及吐出涂布液的狭缝的至少2个模唇,[0011] 上述至少2个模唇包含第1模唇,上述第1模唇位于模唇的并列方向的一端,并且具有出料面、与上述出料面相连的狭缝形成面、及在与上述狭缝形成面相反的一侧与上述出料面相连的外侧面,[0012] 上述第1模唇的上述出料面的甲基乙基酮动态接触角滞后为20°以下,[0013] 从沿着上述并列方向的侧面观察时,在上述第1模唇的上述外侧面中的与上述出料面相连的部位具有弯曲面。[0014] <2>根据<1>所述的模头,其中,上述第1模唇中的上述弯曲面为曲率半径0.5mm以上的弯曲面。[0015] <3>根据<1>或<2>所述的模头,其中,上述第1模唇中的上述弯曲面的甲基乙基酮动态接触角滞后为20°以下。[0016] <4>根据<1>至<3>中任一项所述的模头,其中,上述至少2个模唇包含第2模唇,上述第2模唇位于模唇的并列方向的另一端,并且具有出料面、与上述出料面相连的狭缝形成面、及在与上述狭缝形成面相反的一侧与上述出料面相连的外侧面,[0017] 该外侧面的甲基乙基酮动态接触角滞后为20°以下。[0018] <5>根据<1>至<4>中任一项所述的模头,其中,选自由上述第1模唇的上述出料面及上述弯曲面、以及上述第2模唇的上述外侧面组成的组中的至少1个面的十点平均粗糙度Rzjis为1.0μm以下。[0019] <6>根据<1>至<5>中任一项所述的模头,其中,在上述第1模唇的上述出料面及上述弯曲面、以及上述第2模唇的上述外侧面中,甲基乙基酮的动态接触角滞后为20°以下的面具备包含含氟化合物的表层。[0020] <7>根据<6>所述的模头,其中,上述含氟化合物为具有全氟聚醚基的化合物。[0021] 发明效果[0022] 根据本发明的一方式,提供一种可快速涂抹,且能够抑制涂布缺陷的产生的模头。附图说明[0023] 图1是表示从模头吐出涂布液的工序的一例的概略侧视图。[0024] 图2是表示本发明所涉及的模头的第1实施方式的概略立体图。[0025] 图3是表示使用了本发明所涉及的模头的第1实施方式的涂布层的形成工序的一例的概略剖视图。[0026] 图4是表示本发明所涉及的模头的第2实施方式的概略立体图。[0027] 图5是表示使用了本发明所涉及的模头的第2实施方式的涂布层的形成工序的一例的概略剖视图。具体实施方式[0028] 以下,对本发明的实施方式进行详细说明。本发明并不受以下实施方式的任何限制,在本发明的目标范围内,能够适当进行变更来实施。[0029] 关于本发明的实施方式,参考附图进行说明的情况下,附图中的重复的构成要件及符号则省略说明。附图中使用相同的符号表示的构成要件表示相同的构成要件。附图中的尺寸的比例未必一定表示实际尺寸的比例。[0030] 在有关本发明的实施方式的说明中,将模头的宽度方向的一个方向设为方向X,将模头的长度方向的一个方向设为方向Y,及将模头的高度方向的一个方向设为方向Z。方向X、方向Y及方向Z相互正交。[0031] 在本发明中,使用“~”表示的数值范围表示将记载于“~”前后的数值分别作为下限值及上限值而包含的范围。在本发明中阶段性记载的数值范围中,某一数值范围内记载的上限值或下限值可以替换为其他阶段性记载的数值范围的上限值或下限值。并且,在本发明中所记载的数值范围中,某一数值范围内记载的上限值或下限值也可以被替换为实施例所示的值。[0032] 在本发明中,关于组合物中的各成分的量,当组合物中存在多种相当于各成分的物质时,只要没有特别指定,则表示存在于组合物中的多种物质的总量。[0033] 在本发明中,序数词(例如,“第1”及“第2”)是用于区别多个构成要件的术语,而并不限制构成要件的个数及构成要件的优劣。[0034] 在本发明中,“工序”这术语不仅包含独立的工序,即使在无法与其他工序明确地区分的情况下,只要可实现工序的预期目的,则也包含于本术语中。[0035] 在本发明中,“质量%”与“重量%”的含义相同,“质量份”与“重量份”的含义相同。[0036] 在本发明中,2个以上的优选方式的组合为更优选的方式。[0037] 在本发明中,“(甲基)丙烯酸”是指丙烯酸、甲基丙烯酸或丙烯酸及甲基丙烯酸这两个。[0038] 在本发明中,“固体成分”是指从对象物的总成分去除溶剂(例如水、有机溶剂等)的成分。[0039] <模头>[0040] 本发明所涉及的模头具有并列配置且划定在相邻的模唇与模唇之间输送及吐出涂布液的狭缝的至少2个模唇,[0041] 上述至少2个模唇包含第1模唇,上述第1模唇位于模唇的并列方向的一端,并且具有出料面、与上述出料面相连的狭缝形成面、及在与上述狭缝形成面相反的一侧与上述出料面相连的外侧面,上述第1模唇的上述出料面的甲基乙基酮动态接触角滞后为20°以下,从沿着上述并列方向的侧面观察时,在上述第1模唇的上述外侧面中的与上述出料面相连的部位具有弯曲面。[0042] 根据本发明所涉及的模头,可快速涂抹,且能够抑制涂布缺陷的产生。[0043] 本发明所涉及的模头发挥上述效果的理由推测如下。[0044] 在使用模头的涂布层的形成中,包括对连续输送的被涂布物从模头吐出涂布液的工序。从模头吐出的涂布液在模头的前端部与被涂布物之间形成流道(也称为储液部)。然后,通过形成该流道的涂布液的一部分移动到所输送的被涂布物侧,以在被涂布物上形成涂膜。然而,在模头的前端部、尤其模唇的出料面的周边,有时在模头的长度方向(即涂布宽度方向)的一部分上滞留从流道分离的涂布液。若暂时滞留在出料面的涂布液移动到被涂布物侧,其移动部位的涂布量会局部增加,从而在涂膜产生膜厚不均匀。在此产生的涂膜的膜厚不均匀是在涂膜中,例如沿被涂布物的输送方向延伸,且以宽度0.1mm~5mm,长度100mm~10000mm左右大小观察到的膜厚不均匀。将以这样的大小观察到的膜厚不均匀作为本发明中的“涂布缺陷”[0045] 如上述的涂布缺陷尤其在从模头吐出涂布液的工序为如下方式的情况下明显显现。[0046] 即,如图1所示,其为如下方式:卷绕在支承辊200,对沿着支承辊朝向箭头方向的旋转输送的基材F(即被涂布物),从配置在支承辊200的横向侧的模头100吐出涂布液。[0047] 该方式的情况下,在开始涂布之前(具体而言,涂布液与基材F接触之前),从模头10流下的涂布液附着于模头10的上游侧模唇的出料面等,与上游侧模唇的涂布液的接触面被涂布液覆盖。因此,开始涂布并形成流道后的上游侧模唇的出料面也被涂布液或涂布液的至少一部分干燥而成的膜覆盖。出料面上的涂布液或至少一部分干燥而成的涂布液的膜的组成与形成流道的涂布液相似,因此非常容易亲和,且通过表面张力流动,从流道容易供给涂布液。因此,在上游侧模唇的出料面的长度方向的一部分中涂布液滞留的情况多,因滞留在上游侧模唇的出料面的涂布液引起,导致产生上述涂布缺陷。[0048] 在此,图1是表示从模头吐出涂布液的工序的一例的概略侧视图。[0049] 因此,在本发明的模头中,在位于模唇的并列方向的一端的第1模唇中,将出料面的甲基乙基酮动态接触角滞后设为20°以下。将甲基乙基酮的动态接触角滞后为20°以下的出料面即使与涂布液接触而被覆盖,被涂布液覆盖的面再次露出,而形成三相界面。三相界面是指通过固体(即出料面)、液体(即构成流道的涂布液)及气体(即大气)构成的界面。通过这样的三相界面由第1模唇的出料面形成,从流道分离的涂布液难以滞留在该出料面而容易分离。[0050] 并且,在本发明的模头中,第1模唇具有出料面、与出料面相连的狭缝形成面、及在与狭缝形成面相反的一侧与出料面相连的外侧面,并将该外侧面中的与出料面相连的部位设为弯曲面。将第1模唇设为上述的方式的上游侧模唇时,在第1模唇的外侧面中,与出料面相连的部位为角部,因“角部”形状和三相界面引起,导致在该部位滞留从流道分离的涂布液。如本发明的模头,在作为上游侧模唇的第1模唇中,通过将与出料面相连的部位设为弯曲面,也能够使从流道分离的涂布液难以滞留在出料面与外侧面相连的部位上。[0051] 从以上可推测,根据本发明的模头,能够减少滞留在第1模唇的出料面上的涂布液,其结果抑制涂布缺陷的产生。[0052] 在模头中,上游侧模唇的出料面的甲基乙基酮动态接触角滞后为20°以下时,涂布液对出料面的润湿性比动态接触角滞后大于20°的情况还低,因此流道向模头的长度方向(即涂布宽度方向)润湿扩散时需要时间,其结果,有时涂抹时间变长。尤其,如上述,认为涂布液滞留在上游侧模唇的出料面与外侧面相连的部位时,阻碍该涂布液向流道的模头的长度方向(即涂布宽度方向)的润湿扩散,增加涂抹时间。[0053] 与此相对,本发明所涉及的模头中,在作为上游侧模唇的第1模唇中,通过将与出料面相连的部位设为弯曲面,从流道分离的涂布液不会滞留在出料面与外侧面相连的部位,从模头(具体为第1模唇)快速分离。因此,根据本发明所涉及的模头,如上述推测,由于不阻碍流道向模头的长度方向(即涂布宽度方向)的流道的润湿扩散,所以可快速涂抹。[0054] 另外,在上述日本特开2002‑248399号公报及日本特开2016‑068047号公报中所记载的模头中,模唇的出料面的动态接触角滞后并非20°以下,且导致出料面暂时与涂布液接触时,出料面不会再次露出,因此不形成上述三相界面。[0055] 在本发明中,“模唇的并列方向”是指构成模头的多个模唇并列的方向。[0056] 〔优选方式〕[0057] 在本发明中,第1模唇的出料面的甲基乙基酮动态接触角滞后为20°以下,但该出料面的甲基乙基酮动态接触角滞后优选为18°以下,更优选为16°以下。第1模唇的出料面的甲基乙基酮动态接触角滞后的下限值并无特别限制,但从测量极限的观点考虑,可以举出1°。[0058] 通过第1模唇的出料面的甲基乙基酮动态接触角滞后为20°以下,能够抑制因在该出料面滞留从流道分离的涂布液引起的涂布缺陷的产生。[0059] 并且,通过第1模唇的出料面的甲基乙基酮动态接触角滞后为20°以下,也能够抑制因与第1模唇侧接触的流道失去形状而引起的涂布条纹的产生。[0060] 另外,在此所说的“涂布条纹”是指单独或多个连续出现沿被涂布物的输送方向延伸的线状的膜厚军均匀(即条纹),其宽度为0.1mm~5mm左右。[0061] 以下,对动态接触角滞后进行详细说明。[0062] 动态接触角滞后是指液滴在固体壁的表面滑落时的前进接触角(θa)与后退接触角(θr)之差(θa‑θr)。在本发明中,作为液滴,使用甲基乙基酮的液滴。作为固体壁,可以使用模头本身。并且,作为固体壁,可以使用具有与对象面(例如出料面)相同的表面的板状物。前进接触角(θa)及后退接触角(θr)通过滑落法测量。在滑落法中,通过在水平配置的固体壁的表面滴加液滴,然后逐渐倾斜上述固体壁,从而测量上述液滴开始滑落时的前进接触角(θa)及后退接触角(θr)。前进接触角(θa)是液滴的滑落方向的下游侧的接触角。后退接触角(θr)是液滴的滑落方向的上游侧的接触角。在滑落法中,前进接触角(θa)及后退接触角(θr)在室温25℃及湿度50%的环境下测量。固体壁的表面温度设为25℃。液滴的温度设为25℃。液滴的量通常在1μL~4μL的范围内。但是,从再现接近实际现象的状况的观点考虑,液滴的量并不限定于上述数值范围内。[0063] 在本发明所涉及的模头中,第1模唇的外侧面中的弯曲面优选为曲率半径0.3mm以上的弯曲面,更优选为曲率半径0.5mm以上的弯曲面。[0064] 弯曲面的曲率半径的上限例如为10mm。[0065] 即,第1模唇的外侧面中的弯曲面优选为曲率半径0.3mm~10mm的弯曲面。[0066] 在此,弯曲面的曲率半径利用以下方法来测量。[0067] 利用显微镜(例如,KEYENCECORPORATION制造)从侧面进行观察,根据观察图像求出曲率半径。[0068] 对弯曲面的10个部位求出曲率半径,将10个部位的算术平均值作为外侧面中的弯曲面的曲率半径。[0069] 并且,在本发明所涉及的模头中,从难以通过出料面与外侧面相连的部位滞留从流道分离的涂布液的观点考虑,第1模唇的外侧面中的弯曲面的甲基乙基酮动态接触角滞后优选为20°以下。[0070] 并且,第1模唇的外侧面中的弯曲面的甲基乙基酮动态接触角滞后更优选为18°以下,进一步优选为16°以下。并且,第1模唇的外侧面中的弯曲面的甲基乙基酮动态接触角滞后的下限值并无特别限制,但从测量极限的观点考虑,可以举出1°。[0071] 本发明所涉及的模头优选为以下方式。[0072] 即,本发明所涉及的模头中,至少2个模唇包含第2模唇,上述第2模唇位于模唇的并列方向的另一端,并且具有出料面、与上述出料面相连的狭缝形成面、及在与上述狭缝形成面相反的一侧与上述出料面相连的外侧面,该外侧面的甲基乙基酮动态接触角滞后优选为20°以下。[0073] 在此,关于“第2模唇的外侧面的甲基乙基酮动态接触角滞后为20°以下”,除非另有说明,则包括第2模唇的外侧面的整个表面或一部分的甲基乙基酮动态接触角滞后为20°以下。[0074] 在第2模唇的外侧面中,甲基乙基酮的动态接触角滞后为20°以下的区域优选为至少包括与涂布液接触的区域。[0075] 以下,在本发明所涉及的模头中,将与涂布液接触的区域称为“接液部”。[0076] 如上述,通过第2模唇的外侧面的甲基乙基酮动态接触角滞后为20°以下,也能够抑制因与第2模唇侧接触的流道失去形状而引起的涂布条纹的产生。[0077] 并且,第2模唇的外侧面的甲基乙基酮动态接触角滞后更优选为18°以下,进一步优选为16°以下。并且,第2模唇的外侧面的甲基乙基酮动态接触角滞后的下限值并无特别限制,但从测量极限的观点考虑,可以举出1°。[0078] 在本发明所涉及的模头中,从进一步减小甲基乙基酮的动态接触角滞后的观点考虑,选自由第1模唇的出料面及弯曲面、以及第2模唇的外侧面组成的组中的至少1个面的、十点平均粗糙度Rzjis优选为2.0以下,更优选为1.5μm以下,进一步优选为1.0μm以下。[0079] 从测量极限的观点考虑,上述面的十点平均粗糙度Rzjis的下限值例如可以举出0.001μm以上。[0080] 在此,十点平均粗糙度Rzjis通过“JISB0601:2001”中所记载的方法来测量。作为测量装置,可以使用触针式表面粗糙度测量机(例如SURFCOM,TokyoSeimitsuCo.,Ltd.)。[0081] 在本发明所涉及的模头中,在第1模唇的出料面及弯曲面、以及第2模唇的外侧面中,优选甲基乙基酮的动态接触角滞后为20°以下的面具备包含含氟化合物的表层。[0082] 并且,优选上述表层中包含的含氟化合物是具有全氟聚醚基的化合物。[0083] 另外,关于表层及表层中包含的含氟化合物的详细内容待后叙述。[0084] 〔第1实施方式〕[0085] 关于本发明所涉及的模头的第1实施方式,参考图2及图3进行说明。图2是表示本发明所涉及的模头的第1实施方式的概略立体图。图3是表示使用了本发明所涉及的模头的第1实施方式的涂布层的形成工序的一例的概略剖视图。[0086] 另外,在图3中,接触部20Cz被标记为相对于作为下游侧模唇的第2模唇20的面20C具有阶梯差,但该标记是为了便于说明的标记,接触部20Cz并不具有相对于第2模唇20的面20C具有阶梯差的构成。其与后述的图5所示的作为下游侧模唇的第2模唇20的面20C中的接触部20Cz相同。[0087] 图2及图3所示的模头100A是用于单层涂布的模头。模头100A具有第1模唇10及第2模唇20。[0088] 并且,在图3所示的涂布层的形成工序中,第1模唇10相当于上游侧模唇,且第2模唇20相当于下游侧模唇。[0089] 模头100A由金属形成。[0090] 作为金属,例如可以举出不锈钢。另外,模头100A可以由多个金属形成。例如,在模头100A中,第1模唇10的前端部及第2模唇20的前端部由超细晶粒合金(例如TF15,MitsubishiMaterialsCorporation)或超硬合金(例如,NipponTungstenCo.,Ltd.)形成,并且除第1模唇10的前端部及第2模唇20的前端部以外的部分可以由不锈钢形成。[0091] [第1模唇10][0092] 第1模唇10是与第2模唇20一起划定狭缝30的部件。[0093] 如图2及图3所示,第1模唇10与第2模唇20一起沿方向X并列配置。即,第1模唇10配置在模唇的并列方向的一端。[0094] 第1模唇10由上述的金属形成。[0095] 如图2所示,第1模唇10的形状为将方向Y设为长度方向的柱形状,且可以具有用于构成后述的歧管的凹部。[0096] 如图3所示,第1模唇10具有出料面10A、狭缝形成面10B及外侧面10C。[0097] 以下,对构成第1模唇10的各面进行说明。[0098] (出料面10A)[0099] 如图3所示,出料面10A是朝向方向Z的面。出料面10A例如在从模头100A吐出涂布液L的过程中与作为被涂布物的基材F的表面对置。[0100] 出料面10A的甲基乙基酮动态接触角滞后为20°以下。通过出料面10A的甲基乙基酮动态接触角滞后为20°以下,能够抑制因在出料面10A滞留从流道分离的涂布液引起的涂布缺陷的产生,并且还能够抑制已叙述的涂布条纹的产生。[0101] 出料面10A的甲基乙基酮动态接触角滞后优选为18°以下,更优选为16°以下。[0102] 出料面10A的甲基乙基酮动态接触角滞后的下限值并无限制,但从测量极限的观点考虑,可以举出1°。[0103] 出料面10A具有包含含氟化合物的表层。[0104] 根据包含含氟化合物的表层,能够将出料面10A的甲基乙基酮动态接触角滞后设为20°以下。[0105] 含氟化合物的种类只要是在分子内包含氟源自的化合物,则并无限制。含氟化合物优选为能够以基于甲基乙基酮的动态接触角滞后成为20°以下的方式调整出料面10A(具体而言,出料面10A所具有的表层)化合物。[0106] 含氟化合物优选为具有全氟聚醚基的化合物。作为全氟聚醚基,例如可以举出‑(OCF2)n1‑、‑(OC2F4)n2‑、‑(OC3F6)n3‑、‑(OC4F8)n4‑及它们中的2个以上连结而成的基团。n1~n4分别独立地表示1以上的整数。n1~n4分别独立地优选为20~200,更优选为30~200。但是,当含氟化合物包含‑(OCF2)n1‑、‑(OC2F4)n2‑、‑(OC3F6)n3‑或‑(OC4F8)n4‑时,n1、n2、n3或n4表示2以上的整数。另外,‑(OC3F6)n3‑、及‑(OC4F8)n4‑中的全氟基可以为直链或支链,优选为直链。[0107] 含氟化合物优选为除了全氟聚醚基还具有包含键合有水解性基、或羟基的硅原子的基团的化合物。[0108] 包含键合有水解性基或羟基的硅原子的基团优选为由‑Si(Ra)m(Rb)3‑m表示的基a b a b团。在由‑Si(R)m(R)3‑m表示的基团中,R表示羟基或水解性基,R表示氢原子、碳原子数为1c d c a~22的烷基或‑Y‑Si(R)p(R)3‑p,m表示1~3的整数。Y表示2价的有机基团,R 的含义与R 相d b同,R的含义与R相同,p表示0~3的整数。[0109] 作为水解性基,例如可以举出通过水解赋予羟基的基团。与硅原子键合的水解性基通过水解转换为羟基,由此形成硅烷醇基(Si‑OH)。作为具体的水解性基,例如可以举出碳原子数为1~6的烷氧基、氰基、乙酰氧基、氯原子及异氰酸酯基。水解性基优选为碳原子数为1~6(优选为1~4)的烷氧基或氰基,更优选为碳原子数为1~6(优选为1~4)的烷氧基。[0110] 作为Y所表示的2价的有机基团,例如可以举出亚烷基、亚烷基与醚键(‑O‑)组合而成的基团、及亚烷基与亚芳基组合而成的基团。[0111] 关于含氟化合物的详细内容,能够参考日本特开2015‑200884号公报的0033段~0103段中所记载的含氟硅烷化合物、及国际公开第2018/012344号中所记载的式(1a)、(1b)、(2a)、(2b)、(3a)或(3b)所表示的化合物(全氟聚醚类化合物)的记载。这些内容通过参考被编入本说明书。[0112] 含氟化合物可以是市售品。作为包含含氟化合物的组合物(例如,涂层剂)的市售品,例如可以举出“氟类超膜涂层MX‑031”(SURFNDUSTRIALCO.,LTD.)。作为包含含有全氟聚醚基的含氟化合物的组合物(例如涂层剂)的市售品,例如,可以举出“OPTOOL(注册商标)DSX”(DaikinIndustries,Ltd.)、“OPTOOLDSX‑E”(DaikinIndustries,Ltd.)、“OPTOOLUD100”(DaikinIndustries,Ltd.)、“KY‑164”(Shin‑EtsuChemicalCo.,Ltd.)及“KY‑108”(Shin‑EtsuChemicalCo.,Ltd.)。这些市售品能够作为含氟化合物的供给源来利用。[0113] 包含含氟化合物的表层例如由使用了含氟化合物的表面处理形成。[0114] 作为表面处理的方法,例如可以举出在在被处理面赋予包含含氟化合物的组合物后,干燥包含上述含氟化合物的组合物并使其硬化的方法。作为包含含氟化合物的组合物的赋予方法,例如可以举出刷毛涂布、浸涂及喷涂。[0115] 可以在使用含氟化合物的表面处理之前,对被处理面进行预处理。[0116] 作为预处理,例如可以举出酸处理、碱处理、底漆处理、表面粗糙化处理及基于等离子体的表面改性处理。[0117] 从进一步减小甲基乙基酮的动态接触角滞后的观点考虑,出料面10A的十点平均粗糙度Rzjis优选为2.0μm以下,更优选为1.5μm以下,进一步优选为1.0μm以下。[0118] 从测量极限的观点考虑,出料面10A的十点平均粗糙度Rzjis的下限值例如可以举出0.001μm以上。[0119] 在此,出料面10A的十点平均粗糙度Rzjis可以是包含已叙述的含氟化合物的表层的十点平均粗糙度Rzjis。[0120] (狭缝形成面10B)[0121] 狭缝形成面10B是与第2模唇20的狭缝形成面20B一起划定狭缝30的面。[0122] 狭缝形成面10B在与外侧面10C相反的一侧与出料面10A相连。[0123] 狭缝形成面10B与第2模唇20的狭缝形成面20B对置。[0124] 狭缝形成面10B是沿方向Z延伸的面。[0125] (外侧面10C)[0126] 外侧面10C是朝向与狭缝形成面10B所朝向的方向相反的一侧的面。[0127] 外侧面10C在与狭缝形成面10B相反的一侧与出料面10A相连。[0128] 在模头100A的前端部,外侧面10C相对于方向Z倾斜。[0129] 具体而言,外侧面10C以随着朝向方向Z而靠近狭缝形成面10B的方式延伸。[0130] 外侧面10C在如图3那样剖面观察时,与出料面10A相连的部位具有凸状弯曲面12。[0131] 从加工精度的观点考虑,外侧面10C中的凸状弯曲面12优选为圆弧弯曲面。[0132] 并且,外侧面10C中的凸状弯曲面12如已叙述,优选为曲率半径0.3mm以上的弯曲面,更优选为曲率半径0.5mm以上的弯曲面。[0133] 凸状弯曲面12的曲率半径的上限值例如为10mm。[0134] 外侧面10C中的凸状弯曲面12如已叙述,从难以通过出料面与外侧面相连的部位滞留从流道分离的涂布液的观点考虑,基于甲基乙基酮的动态接触角滞后优选为20°以下。[0135] [第2模唇20][0136] 第2模唇20是与第1模唇10一起划定狭缝30的部件。[0137] 如图2及图3所示,第2模唇20与第1模唇10一起沿方向X并列配置。[0138] 第2模唇20由上述的金属形成。[0139] 如图2所示,第2模唇20的形状为将方向Y设为长度方向的柱形状,且可以具有用于构成后述的歧管的凹部。[0140] 如图3所示,第2模唇20具有出料面20A、狭缝形成面20B及外侧面20C。[0141] 以下,对构成第2模唇20的各面进行说明。[0142] (出料面20A)[0143] 出料面20A是朝向方向Z的面。[0144] 出料面20A例如在从模头100A吐出涂布液L的过程中与作为被涂布物的基材F的表面对置。[0145] (狭缝形成面20B)[0146] 狭缝形成面20B是与第1模唇10的狭缝形成面10B一起划定狭缝30的面。[0147] 狭缝形成面20B在与外侧面20C相反的一侧与出料面20A相连。[0148] 狭缝形成面20B与狭缝形成面10B对置。[0149] 狭缝形成面20B是沿方向Z延伸的面。[0150] (外侧面20C)[0151] 外侧面20C是朝向与狭缝形成面20B所朝向的方向相反的一侧的面。[0152] 外侧面20C在与狭缝形成面20B相反的一侧与出料面20A相连。[0153] 在模头100A的前端部,外侧面20C相对于方向Z倾斜。[0154] 具体而言,外侧面20C以随着朝向方向Z而靠近狭缝形成面20B的方式延伸。[0155] 作为外侧面20C的一部分的接液部20Cz如已叙述,从抑制涂布条纹的产生的观点考虑,基于甲基乙基酮的动态接触角滞后优选为20°以下。[0156] 接液部20Cz的甲基乙基酮动态接触角滞后优选为18°以下,更优选为16°以下。[0157] 接液部20Cz的甲基乙基酮动态接触角滞后的下限值并无限制,但从测量极限的观点考虑,可以举出1°。[0158] 接液部20Cz优选具有包含含氟化合物的表层。[0159] 关于包含含氟化合物的表层,与在“第1模唇10”的出料面项中说明的包含含氟化合物的表层的含义相同,优选方式也相同。[0160] 并且,包含含氟化合物的表层的形成方法也利用在“第1模唇10”项中说明的方法相同的方法。[0161] [狭缝30][0162] 狭缝30是用于输送及吐出涂布液L的空间。[0163] 狭缝30形成于在方向X上相邻的第1模唇10与第2模唇20之间。[0164] 具体而言,狭缝30由第1模唇10的狭缝形成面10B及第2模唇20的狭缝形成面20B形成。[0165] 狭缝30沿方向Z延伸。另外,在模头100A中,狭缝30与歧管50连通。[0166] 歧道50为沿着模头100A的长度方向(即,图2中的Y方向)延伸的空间,使供给到模头100A的涂布液L向涂布宽度方向(即,模头100A的长度方向,图2中的Y方向)扩散,并暂时贮存涂布液L。[0167] 歧管50形成在第1模唇10与第2模唇20之间。[0168] [使用方法][0169] 以下,关于模头100A的使用方法,参考图3进行说明。[0170] 如图3所示,在使用模头100A的涂布层的形成工序中,模头100A相对于作为被涂布物的基材F,使第1模唇10的出料面10A及第2模唇20的出料面20A对置地配置。[0171] 从可快速涂抹,且可有效获得抑制涂布缺陷的产生的效果的观点考虑,如图1所示,模头100A优选配置成在支承辊200的横向侧,且第1模唇10位于基材F的输送方向的上游侧。[0172] 第1模唇10的出料面10A与基材F的距离并无限制,例如根据涂布液L的粘度及所形成的涂膜的厚度确定即可。[0173] 第1模唇10的出料面10A与基材F的距离例如可以举出50μm~500μm的范围。第1模唇10的出料面10A与基材F的距离例如可以在100μm~300μm的范围内确定。“出料面与基材的距离”是指出料面与基材的最短距离。出料面与基材的距离例如能够使用锥度规测量。[0174] 第2模唇20的出料面20A与基材F的距离并无限制,例如根据涂布液L的粘度及所形成的涂膜的厚度确定即可。[0175] 第2模唇20的出料面20A与基材F的距离例如可以举出50μm~500μm的范围。第2模唇20的出料面20A与基材F的距离例如可以在100μm~300μm的范围内确定。第2模唇20的出料面20A与基材F的距离可以和第1模唇10的出料面10A与基材的距离相同。第2模唇20的出料面20A与基材F的距离可以和第1模唇10的出料面10A与基材F的距离不同。[0176] 基材F相对于模头100A向方向X输送。[0177] 供给到模头100A的涂布液L经由狭缝30吐出。[0178] 从模头100A吐出的涂布液L在模头100A与基材F之间形成流道B。通过一边连续输送基材F,一边从模头100A吐出涂布液L,形成流道B的涂布液L移动到基材F上,从而能够在基材F上形成涂膜。[0179] 通过在基材F上形成涂膜后,且经过适当的所需工序(例如,涂膜的干燥工序等),在作为被涂布物的基材F上形成目标涂布层。[0180] 以下,对应用模头100A的涂布层的形成方法进行说明。但是,应用模头100A的涂布层的形成方法并不限制于下述内容。[0181] (基材)[0182] 基材的种类并无限制,例如根据用途从公知的基材适当选择即可。作为基材,例如可以举出聚酯类基材(例如,聚对苯二甲酸乙二酯及聚萘二甲酸乙二醇酯)、纤维素类基材(例如,二乙酰纤维素及三乙酰纤维素(TAC)、聚碳酸酯类基材、聚(甲基)丙烯酸类基材(例如,聚甲基丙烯酸甲酯)、聚苯乙烯类基材(例如,聚苯乙烯及丙烯腈苯乙烯共聚物)、烯烃类基材(例如,聚乙烯、聚丙烯、具有环状结构的聚烯烃、具有环状结构的降冰片烯的聚烯烃及乙烯丙烯共聚物)、聚酰胺类基材(例如,聚氯乙烯、尼龙及芳香族聚酰胺)、聚酰亚胺类基材、聚砜类基材、聚醚砜类基材、聚醚醚酮类基材、聚苯硫醚类基材、乙烯醇类基材、聚偏二氯乙烯类基材、聚乙烯缩丁醛类基材、聚(甲基)丙烯酸酯基材、聚甲醛类基材、环氧树脂类基材、及由将上述聚合物材料共混而成的共混聚合物构成的基材。[0183] 从输送性的观点考虑,基材优选为聚合物膜。[0184] 在光学膜的用途中,基材的透光率优选为80%以上。并且,在光学膜的用途中,作为基材使用聚合物膜的情况下,聚合物膜优选为光学各向同性的聚合物膜。[0185] 基材的形状并无限制。基材的形状例如可以为膜或片。[0186] 可以在基材的表面预先形成层。作为上述层,例如可以举出粘接层、阻挡层、折射率调整层及取向层。作为阻挡层,例如可以举出对水或氧的阻挡层。[0187] (基材的输送机构)[0188] 基材的输送机构并无限制。[0189] 基材的输送机构例如能够以架设基材的状态输送基材,从提高涂布精度的观点考虑,优选为支承辊。[0190] 支承辊是可旋转的部件。支承辊进行旋转,由此能够输送基材。支承辊也能够卷绕基材并输送。[0191] 从促进涂膜的干燥,及抑制由膜面温度下降引起涂膜发白(blushing)(即,由微细结露的产生引起的涂膜白化)等观点考虑,可以对支承辊加温。[0192] 支承辊的表面温度优选通过温度控制方法来控制。支承辊的表面温度优选根据被检测的表面温度并通过温度控制方法控制。[0193] 作为温度控制方法,例如可以举出加热方法及冷却方法。在加热方法中,例如使用感应加热、水加热或油加热。在冷却方法中,例如可以利用基于冷却水的冷却。[0194] 从容易卷绕基材的观点、利用模头容易涂布的观点、以及支承辊的制造成本的观点考虑,支承辊的直径优选为100mm~1,000mm,更优选为100mm~800mm,尤其优选为200mm~700mm。[0195] 从生产率及涂布性的观点考虑,基于支承辊的基材的输送速度例如优选为10m/分钟~100m/分钟。[0196] 从使涂布时的基材输送稳定化并抑制涂膜的厚度不均匀的产生的观点考虑,基材相对于支承辊的包角优选为60°以上,更优选为90°以上。并且,包角的上限例如能够设定为180°。[0197] 包角是指由基材与支承辊接触时的基材的输送方向与基材从支承辊分离时的基材的输送方向形成的角度。[0198] (涂布液)[0199] 涂布液的种类只要是具有流动性的液状物,则并无限制。[0200] 涂布液例如可以为包含聚合性或交联性化合物的硬化性涂布液或非硬化性涂布液。[0201] 涂布液可以包含有机溶剂。一般来讲,若使用包含有机溶剂的涂布液,则具有容易产生涂布条纹的倾向。另一方面,在本发明所涉及的模头的第2模唇中,通过将外侧面的甲基乙基酮动态接触角滞后设为20°以下,即使为包含有机溶剂的涂布液,也容易显现抑制涂布条纹的产生的效果。[0202] 有机溶剂只要是溶解或分散涂布液中所包含的成分的有机溶剂即可。并且,涂布液中的有机溶剂的含量并无限制。[0203] 涂布液的一例是形成光学各向异性层的涂布液。[0204] 作为上述涂布液,例如可以举出包含1种或2种以上的聚合性液晶化合物、聚合引发剂、流平剂及有机溶剂,且固体成分浓度为20质量%~40质量%的涂布液。上述涂布液还可以包含聚合性液晶化合物以外的液晶化合物、取向控制剂、表面活性剂、倾斜角控制剂、取向助剂、增塑剂或交联剂。[0205] 涂布液的另一例是形成偏振层的涂布液。[0206] 作为上述涂布液,例如可以举出包含液晶性聚合物、二色性化合物、溶解液晶性聚合物及二色性化合物的有机溶剂,且固体成分浓度为1质量%~7质量%的涂布液。上述涂布液还可以包含表面改良剂、聚合引发剂或各种添加剂。[0207] 作为涂布液的又一例,是形成硬涂层的涂布液。[0208] 作为上述涂布液,例如可以举出包含聚合性化合物(优选多官能的聚合性化合物)、无机粒子(优选二氧化硅粒子)、聚合引发剂及有机溶剂且固体成分浓度为40质量%~60质量%的涂布液。上述涂布液还可以包含单体或各种添加剂。[0209] 作为涂布液的又一例,是形成取向层的涂布液。[0210] 作为上述涂布液,例如可以举出包含聚乙烯醇(优选具有丙烯酰基的改性聚乙烯醇)、水及有机溶剂且固体成分浓度为1质量%~10质量%的涂布液。上述涂布液还可以包含交联剂。[0211] (涂布层)[0212] 形成在被涂布物上的涂布层的种类并无限制。作为光学膜的用途中的涂布层,例如可以举出硬涂层、光学各向异性层、偏振层及折射率调整层。[0213] 涂布层的厚度并无限制,例如根据用途确定即可。涂布层的厚度例如可以在0.1μm~100μm的范围内,其中,优选为5μm以下(更优选为0.1μm~5μm)。[0214] <<第2实施方式>>[0215] 接着,关于本发明所涉及的模头的第2实施方式,参考图4及图5进行说明。[0216] 图4是表示本发明所涉及的模头的第2实施方式的概略立体图。图5是表示使用了本发明所涉及的模头的第2实施方式的涂布层的形成工序的一例的概略剖视图。[0217] 在以下说明中,对与第1实施方式相同的构成要件标注与第1实施方式相同的符号并省略详细的说明。[0218] 第2实施方式在如下事项中与第1实施方式存在差异。即,第2实施方式所涉及的模头除了第1模唇10及第2模唇20以外,还具有第3模唇40。[0219] 图4及图5所示的模头100B为多层涂布用模头。[0220] 模头100B能够吐出2种涂布液。[0221] 模头100B具有第1模唇10、第2模唇20及第3模唇40。[0222] 并且,在图5所示的涂布层的形成工序中,第1模唇10相当于最上游侧模唇,且第2模唇20相当于最下游侧模唇。[0223] 模头100B由金属形成。[0224] 作为金属,例如可以举出不锈钢。另外,模头100B可以由多个金属形成。例如,第1模唇10的前端部、第2模唇20的前端部及第3模唇40的前端部由超细晶粒合金(例如TF15(MitsubishiMaterialsCorporation))或超硬合金(例如,NipponTungstenCo.,Ltd.)形成,并且除了第1模唇10的前端部、第2模唇20的前端部及第3模唇40的前端部以外的部分可以由不锈钢形成。[0225] [第3模唇40][0226] 第3模唇40是与第1模唇10及第2模唇20一起分别划定狭缝30a及狭缝30b的部件。[0227] 如图4及图5所示,第3模唇40与第1模唇10及第2模唇20一起沿方向X并列配置。[0228] 第3模唇40配置在第1模唇10与第2模唇20之间。[0229] 第3模唇40由上述的金属形成。[0230] 如图4所示,第3模唇40的形状为将方向Y设为长度方向的柱形状,且可以具有用于构成后述的歧管的凹部。[0231] 如图5所示,第3模唇40具有出料面40A、狭缝形成面40B1及狭缝形成面40B2。[0232] 以下,对构成第3模唇40的各面进行说明。[0233] (出料面40A)[0234] 如图5所示,出料面40A是朝向方向Z的面。[0235] 出料面40A例如在从模头100B吐出涂布液L1及涂布液L2的过程中与作为被涂布物的基材F的表面对置。[0236] (狭缝形成面40B1)[0237] 狭缝形成面40B1是与第1模唇10的狭缝形成面10B一起划定狭缝30a的面。[0238] 狭缝形成面40B1在与狭缝形成面40B2相反的一侧与出料面40A相连。[0239] 狭缝形成面40B1与狭缝形成面10B对置。[0240] 狭缝形成面40B1是沿方向Z延伸的面。[0241] (狭缝形成面40B2)[0242] 狭缝形成面40B2是与第2模唇20的狭缝形成面20B一起划定狭缝30b的面。[0243] 狭缝形成面40B2在与狭缝形成面40B1相反的一侧与出料面40A相连。[0244] 狭缝形成面40B2与狭缝形成面20B对置。[0245] 狭缝形成面40B2是沿方向Z延伸的面。[0246] [狭缝30a][0247] 狭缝30a是用于输送及吐出涂布液L1的空间。[0248] 狭缝30a形成于在方向X上相邻的第1模唇10与第3模唇40之间。[0249] 具体而言,狭缝30a由第1模唇10的狭缝形成面10B及第3模唇40的狭缝形成面40B1形成。[0250] 狭缝30a沿方向Z延伸。[0251] 另外,在模头100B中,狭缝30a与第1歧管50a连通。[0252] 第1歧道50a为沿着模头100B的长度方向(即,图4中的Y方向)延伸的空间,使供给到模头100B的涂布液L1向涂布宽度方向(即,模头100B的长度方向、图4中的Y方向)扩散,并暂时贮存涂布液L1。[0253] 第1歧管50a形成在第1模唇10与第3模唇40之间。[0254] [狭缝30b][0255] 狭缝30b是用于输送及吐出涂布液L2的空间。[0256] 狭缝30b形成于在方向X上相邻的第2模唇20与第3模唇40之间。[0257] 具体而言,狭缝30b由第2模唇20的狭缝形成面20B及第3模唇40的狭缝形成面40B2形成。[0258] 狭缝30b沿方向Z延伸。[0259] 另外,在模头100B中,狭缝30b与第2歧管50b连通。[0260] 第2歧道50b为沿着模头100B的长度方向(即,图4中的Y方向)延伸的空间,使供给到模头100B的涂布液L2向涂布宽度方向(即,模头100B的长度方向、图4中的Y方向)扩散,并暂时贮存涂布液L2。[0261] 第2歧管50b形成在第2模唇20与第3模唇40之间。[0262] [使用方法][0263] 以下,关于模头100B的使用方法,参考图5进行说明。[0264] 如图5所示,在使用模头100B的涂布层的形成工序中,模头100B相对于作为被涂布物的基材F,使第1模唇10的出料面10A、第2模唇20的出料面20A及第3模唇40的出料面40A对置地配置。[0265] 从可快速涂抹,且有效获得抑制涂布缺陷的产生的效果的观点考虑,如图1所示,模头100B优选配置成在支承辊200的横向侧,且第1模唇10位于基材F的输送方向的上游侧。[0266] 第3模唇40的出料面40A与基材F的距离并无限制,例如根据涂布液L1的粘度、涂布液L2的粘度及所形成的涂膜的厚度确定即可。[0267] 第3模唇40的出料面40A与基材F的距离可以举出50μm~500μm的范围。第3模唇40的出料面40A与基材F的距离例如可以在100μm~300μm的范围内确定。第3模唇40的出料面40A与基材F的距离可以和其他模唇(是指第1模唇或第2模唇。以下,在本段中相同。)的出料面与基材的距离相同。第3模唇40的出料面40A与基材F的距离可以和其他模唇的出料面与基材F的距离不同。[0268] 基材F相对于模头100B向方向X输送。[0269] 供给到模头100B的涂布液L1经由狭缝30a吐出。供给到模头100B的涂布液L2经由狭缝30b吐出。涂布液L1的种类可以与涂布液L2的种类相同,或者可以不同。[0270] 从模头100A吐出的涂布液L1及涂布液L2在模头100B与基材F之间形成流道B。通过一边连续输送基材F,一边从模头100B吐出涂布液L1及涂布液L2,形成流道B的涂布液L1及L2移动到基材F上,从而能够在基材F上形成涂膜。[0271] 通过在基材F上形成涂膜后,且经过适当的所需工序(例如,涂膜的干燥工序等),在作为被涂布物的基材F上形成目标涂布层。[0272] 关于应用模头100B的涂布层的形成方法,例如应用在上述“第1实施方式”项中说明的、与应用模头100A的涂布层的形成方法相同的方法。[0273] 本发明并不限定于上述实施方式。本发明在本发明的目的的范围内,包含适当变更上述实施方式的实施方式。[0274] 实施例[0275] 以下,通过实施例详细地说明本发明。但是,本发明并不限制于以下实施例。[0276] <基材的准备>[0277] 作为基材,准备了长条状三乙酰纤维素膜(TD40UL,FUJIFILMCorporation,折射率:1.48,厚度:60μm,宽度:1,340mm)。以下,也称为TAC膜。[0278] <涂布液A的制备>[0279] 通过混合下述成分而制备出涂布液A。[0280] ·下述聚合性液晶化合物L‑9:47.50质量份[0281] ·下述聚合性液晶化合物L‑10:47.50质量份[0282] ·下述聚合性液晶化合物L‑3:5.00质量份[0283] ·下述聚合引发剂PI‑1:0.50质量份[0284] ·下述流平剂T‑1(重均分子量:10,000):0.20质量份[0285] ·甲基乙基酮:235.00质量份[0286] [化学式1][0287][0288] 在上述聚合性液晶化合物L‑9及上述聚合性液晶化合物L‑10中,R1及R2中的一方表3 4示甲基,另一方表示氢原子,R及R 中的一方表示甲基,另一方表示氢原子。即,上述聚合性液晶化合物L‑9及上述聚合性液晶化合物L‑10分别为甲基的位置不同的位置异构体的混合物。[0289] [化学式2][0290][0291] <涂布液B的制备>[0292] 通过混合下述成分而制备出涂布液B。[0293] ·下述液晶性聚合物LP1(重均分子量:13,300):4.011质量份[0294] ·下述二色性化合物D1:0.792质量份[0295] ·下述二色性化合物D2:0.963质量份[0296] ·下述表面改良剂F2(重均分子量:10,000):0.087质量份[0297] ·下述表面改良剂F3:0.073质量份[0298] ·下述表面改良剂F4:0.073质量份[0299] ·四氢呋喃(沸点为80℃以下的有机溶剂):37.6004质量份[0300] ·环戊酮:56.4006质量份[0301] [化学式3][0302][0303] 上述液晶性聚合物LP1在分子中,以质量比计,按80:20((1):(2))比例包含上述结构单元(1)及上述结构单元(2)。[0304] [化学式4][0305][0306] [化学式5][0307][0308] <涂布液C的制备>[0309] 通过相对于甲基乙基酮(500质量份),添加IPA(异丙醇,500质量份)、部分己内酯改性的多官能丙烯酸酯(KAYARADDPCA‑20,NipponKayakuCo.,Ltd.,750质量份)、二氧化硅溶胶(MIBK‑ST,NissanChemicalCorporation,200质量份)及光聚合引发剂(Omnirad184、IGMResinsB.V.,50质量份)而制备出涂布液C。[0310] <涂布液D的制备>[0311] 通过相对于下述改性聚乙烯醇(PVA,聚合度:1,000,20质量份),混合戊二醛(交联剂,1质量份)、水(378质量份)、甲醇(120质量份)而制备出涂布液D。[0312] [化学式6][0313][0314] 上述PVA中,主链的各结构单元中附注的数值为摩尔比。[0315] <模头1的准备>[0316] 在不锈钢(SUS630)及前端部使用超硬合金(M15、NipponTungstenCo.,Ltd.),制作出与图3所示的模头100A相同的构成的模头a。另外,模头a在第1模唇10的外侧面10C中的与出料面10A相连的部位设置曲率半径0.4mm的凸状弯曲面12。[0317] 相对于模头a的、第1模唇10的出料面10A及外侧面10C、以及第2模唇20的出料面20A及外侧面20C,使用包含含氟化合物(也称为F类化合物)的SURFNDUSTRIALCO.,LTD.的MX‑031进行表面处理,以获得了模头1。[0318] 关于以如上方式进行表面处理而获得的表层,利用已叙述的方法测量了由甲基乙基酮引起的动态接触角滞后,其结果为18°。[0319] 并且,关于表层的Rzjis,利用已叙述的方法进行了测量,其结果为1.1μm。[0320] <模头2的准备>[0321] 除了在第1模唇10的外侧面10C中的与出料面10A相连的部位设置曲率半径0.5mm的凸状弯曲面12以外,制作了与模头a相同的构成的模头b。[0322] 相对于模头b,以与模头1的准备相同的方法进行表面处理获得了模头2。[0323] 关于模头2的表层,利用已叙述的方法测量了由甲基乙基酮引起的动态接触角滞后,其结果为18°。[0324] 并且,关于表层的Rzjis,利用已叙述的方法进行了测量,其结果为1.1μm。[0325] <模头3的准备>[0326] 除了改变相对于第1模唇10的出料面10A及外侧面10C、以及第2模唇20的出料面20A及相当于外侧面20C的面的精磨条件以外,以与模头b相同的方式,制作了与图3所示的模头100A相同的构成的模头c。[0327] 相对于模头c,以与模头1的准备相同的方法进行表面处理获得了模头3。[0328] 关于模头3的表层,利用已叙述的方法测量了由甲基乙基酮引起的动态接触角滞后,其结果为15°。[0329] 并且,关于表层的Rzjis,利用已叙述的方法进行了测量,其结果为0.9μm。[0330] <模头4的准备>[0331] 在不锈钢(SUS630)及前端部使用超硬合金(M15、NipponTungstenCo.,Ltd.),制作出与图5所示的模头100C相同的构成的模头d。另外,模头d在第1模唇10的外侧面10C中的与出料面10A相连的部位设置曲率半径0.4mm的凸状弯曲面12。[0332] 相对于模头d的、第1模唇10的出料面10A及外侧面10C、第2模唇20的出料面20A及外侧面20C、以及第3模唇40的出料面40A,使用包含含氟化合物(即F类化合物)的SURFNDUSTRIALCO.,LTD.的MX‑031进行表面处理,以获得了模头4。[0333] 关于以如上方式进行表面处理而获得的表层,利用已叙述的方法测量了由甲基乙基酮引起的动态接触角滞后,其结果为18°。[0334] 并且,关于表层的Rzjis,利用已叙述的方法进行了测量,其结果为1.1μm。[0335] <模头5的准备>[0336] 在模头1中,除了将表面处理改变为以下方法以外,以与模头1相同的方式制作出模头5。[0337] 即,相对于模头a的、第1模唇10的出料面10A及外侧面10C、以及第2模唇20的出料面20A及外侧面20C,使用DuPontdeNemours,Inc.的四氟乙烯树脂(也称为F类树脂)进行了氟树脂涂层。[0338] 并且,关于以如上方式获得的表层的Rzjis,利用已叙述的方法进行了测量,其结果为1.1μm。[0339] <模头6的准备>[0340] 在模头1中,除了将表面处理改变为以下方法以外,以与模头1相同的方式制作出模头6。[0341] 即,相对于模头a的、第1模唇10的出料面10A及外侧面10C、以及第2模唇20的出料面20A及外侧面20C,通过无电解镀敷形成了镍及聚四氟乙烯的复合镀敷层(也称为F类镀敷层)。[0342] 并且,关于以如上方式获得的表层的Rzjis,利用已叙述的方法进行了测量,其结果为1.1μm。[0343] <模头7的准备>[0344] 除了第1模唇10的外侧面10C中的与出料面10A相连的部位是平面以外,制作了与模头a相同构成的模头e。[0345] 相对于模头e,以与模头1的准备相同的方法进行表面处理获得了模头7。[0346] 关于模头7的表层,利用已叙述的方法测量了由甲基乙基酮引起的动态接触角滞后,其结果为18°。[0347] 并且,关于表层的Rzjis,利用已叙述的方法进行了测量,其结果为1.1μm。[0348] <实施例1>[0349] 通过如图1所示地配置模头1,且在TAC膜上涂布涂布液A,从而以宽度200mm形成了涂膜。[0350] 具体而言,向表面温度为60℃,外径为300mm的支承辊上输送TAC膜,并对卷绕在支承辊上并输送的TAC膜,使用配置在支承辊的横向侧的的模头1涂布了涂布液A。[0351] 涂布涂布液A时,TAC膜的包角为150°。并且,TAC膜的输送速度为30m/分钟。[0352] 涂布涂布液A时,第1模唇10的出料面10A与TAC膜的距离为100μm,第2模唇20的出料面20A与TAC膜的距离为100μm。[0353] <实施例2~4>[0354] 除了按照表1的记载变更涂布液的种类以外,通过与实施例1相同的步骤形成了涂膜。[0355] <实施例5~13及比较例1~9>[0356] 除了按照表1的记载变更模头的种类,及按照表1的记载适当变更涂布液的种类以外,通过与实施例1相同的步骤形成了涂膜。[0357] 另外,在实施例13中,进行了涂布液A与涂布液A的多层涂布。[0358] <三相界面的确认>[0359] 在上述的实施例及比较例中,作为支承辊,使用在内部配置有相机的玻璃制透明辊,并观察涂布涂布液期间的第1模唇10的出料面10A。通过第1模唇10的出料面10A暂时被涂布液覆盖之后再次露出而形成三相界面时,判定为“有”三相界面。将观察结果示于表1。[0360] <涂布缺陷的评价>[0361] 从所获得的涂膜切出5个宽度:200mm,长度:2,000mm的评价样品。将所获得的评价样品分别置在测光台上,然后通过对涂膜照射光,从而用肉眼观察有无浓淡、浓淡数及浓度长度。求出5个评价样品中的浓淡数(即涂布缺陷数)的总和,以及根据下述基准,评价了涂布缺陷。[0362] 将评价结果示于表1。[0363] ‑基准‑[0364] 1:未见浓淡,也未观察到涂布缺陷。[0365] 2:可见长度100mm~1000mm左右的浓淡(即涂布缺陷),观察到1~4个涂布缺陷。[0366] 3:可见长度100mm~1000mm左右的浓淡(即涂布缺陷),观察到5个以上涂布缺陷。[0367] <涂膜的评价>[0368] 根据TAC膜的输送速度及所获得的涂膜的形状的观察,对TAC膜求出从开始形成涂膜至涂膜遍及宽度200mm形成为止的时间。[0369] 将评价结果示于表1。[0370] <涂布条纹的评价>[0371] 从正面方向侧(即第1模唇10的外侧面10C侧)及背面方向侧(即第2模唇20的外侧面20C侧)观察在上述各例子中进行涂布时的流道的形状,并且将所形成的涂膜(宽度200mm×长度5000mm)载置于测光台(lighttable)上,照射透射光并以肉眼观察深浅或深浅有无重复,并将流道的形状的观察结果与以深浅表示的膜厚不均匀建立关联而评价了涂布条纹。[0372] 相对于基材的输送方向,将因最上游侧的模唇(即第1模唇)引起的涂布条纹设为1,将因最下游侧的模唇(即第2模唇)引起的涂布条纹设为2。[0373] 基准如下所述。[0374] 将评价结果示于表1。[0375] ‑基准‑[0376] 1:未观察到涂布条纹。[0377] 2:观察到极弱的涂布条纹。[0378] 3:观察到1条以上且少于5条的清晰的涂布条纹。[0379] 4:在整个面上观察到5条以上清晰的涂布条纹。[0380][0381] 根据表1,从实施例1~13明确可知,使用模头1~4时,抑制涂布缺陷的发生,且可快速涂抹。[0382] 并且,可知使用模头1~4及7时,抑制涂布条纹的产生。[0383] 符号说明[0384] 10‑第1模唇,10A‑第1模唇的出料面,10B‑第1模唇的狭缝形成面,10C‑第1模唇的外侧面,12‑弯曲面,20‑第2模唇,20A‑第2模唇的出料面,20B‑第2模唇的狭缝形成面,20C‑第2模唇的外侧面,20Cz‑接液部,30、30a、30b‑狭缝,40‑第3模唇,40A‑第3模唇的出料面,40B1、40B2‑第3模唇的狭缝形成面,50‑歧管,50a‑第1歧管,50b‑第2歧管,100、100A、100B‑模头,B‑流道,F‑基材,L、L1、L2‑涂布液。[0385] 2020年3月11日申请的日本专利申请2020‑042282号的所有公开内容通过参考而被并入本说明书中。本说明书中所记载的所有文献、专利申请及技术标准与具体地且分别地记载通过参考而被并入的各个文献、专利申请及技术标准的情况相同程度地,通过参考而被并入本说明书中。

专利地区:日本

专利申请日期:2021-02-26

专利公开日期:2024-06-18

专利公告号:CN115175772B

电话咨询
读内容
搜本页
回顶部