专利名称:一种Micro OLED高精度蒸镀掩模版多阶段清洗系统及清洗方法
专利类型:发明专利
专利申请号:CN202410758587.6
专利申请(专利权)人:江苏福拉特自动化设备有限公司
权利人地址:江苏省南京市栖霞区南京经济技术开发区红枫科技园A2栋第1层
专利发明(设计)人:钟立华,王善鹤,李素华,袁亚鸿,刘苏伟,李正乐
专利摘要:本发明公开了一种Micro OLED高精度蒸镀掩模版多阶段清洗系统及清洗方法,包括掩模版上料机构,掩模版上料机构用于将待清洗掩模版上料输送至下一清洗工序;掩模版清洗机构,掩模版清洗机构用于接收掩模版上料机构上料的待清洗掩模版,并对待清洗掩模版进行多阶段、多层次清洗,获得洗净后的掩模版;掩模版下料机构,掩模版下料机构用于将洗净后的掩模版输送至下一工序,本发明能够对不同膜材的掩膜版进行清洗,并结合多种清洗方式,对掩膜版的表面、内层进行有效清洗,根据需求定制多频段超声波全面幅频率,分区间分阶段去除不同粒径异物,全面提升掩膜版的清洗效果,解决异物残留造成掩膜版不良的问题,提高掩膜版的产品质量。
主权利要求:
1.一种MicroOLED高精度蒸镀掩模版多阶段清洗系统,其特征在于,包括
掩模版上料机构(1),所述掩模版上料机构(1)用于将待清洗掩模版上料输送至下一清洗工序;
掩模版清洗机构(2),所述掩模版清洗机构(2)用于接收所述掩模版上料机构(1)上料的待清洗掩模版,并对待清洗掩模版进行多阶段、多层次清洗,获得洗净后的掩模版;
掩模版下料机构(3),所述掩模版下料机构(3)用于将洗净后的掩模版输送至下一工序;
所述掩模版清洗机构(2)包括
掩模版悬臂输送清洗单元(201),所述掩模版悬臂输送清洗单元(201)用于对悬臂输送单元(207)进行清洗和干燥处理;
掩模版有机膜材清洗区(202),所述掩模版有机膜材清洗区(202)包括第一有机膜材清洗单元(2021)、第二有机膜材清洗单元(2022)、第一快排冲洗单元(2023)和第一漂洗单元(2024),所述第一有机膜材清洗单元(2021)、所述第二有机膜材清洗单元(2022)、所述第一快排冲洗单元(2023)和所述第一漂洗单元(2024)依次设置;
掩模版金属膜材清洗区(203),所述掩模版金属膜材清洗区(203)包括金属清洗单元(2031)和第二快排冲洗单元(2032),所述金属清洗单元(2031)和所述第二快排冲洗单元(2032)依次设置;
掩模版氧化物膜材清洗区(204),所述掩模版氧化物膜材清洗区(204)包括金属氧化物清洗单元(2041)和第三快排冲洗单元(2042),所述金属氧化物清洗单元(2041)和所述第三快排冲洗单元(2042)依次设置;
掩模版浸润深度清洗区(205),所述掩模版浸润深度清洗区(205)包括第二漂洗单元(2051)、微粒去除清洗单元(2052)、第四快排冲洗单元(2053)和第三漂洗单元(2054),所述第二漂洗单元(2051)、所述微粒去除清洗单元(2052)、所述第四快排冲洗单元(2053)和所述第三漂洗单元(2054)依次设置;
掩模版去水干燥区(206),所述掩模版去水干燥区(206)包括第一干燥单元(2061)和第二干燥单元(2062),所述第一干燥单元(2061)和所述第二干燥单元(2062)依次设置;
悬臂输送单元(207),所述悬臂输送单元(207)包括第一悬侧搬送单元(2071)、第二悬侧搬送单元(2072)和第三悬侧搬送单元(2073),所述第一悬侧搬送单元(2071)设置在所述掩模版悬臂输送清洗单元(201)和所述掩模版浸润深度清洗区(205)之间,所述第二悬侧搬送单元(2072)设置在所述掩模版浸润深度清洗区(205)和所述掩模版去水干燥区(206)之间,所述第三悬侧搬送单元(2073)设置在所述掩模版去水干燥区(206)和所述掩模版下料机构(3)之间。
2.根据权利要求1所述的一种MicroOLED高精度蒸镀掩模版多阶段清洗系统,其特征在于:所述掩模版上料机构(1)包括自动上料工位单元(101),所述自动上料工位单元(101)配置掩模版传送盒或卡匣,所述自动上料工位单元(101)通过掩模版传送盒或卡匣实现待清洗掩模版自动上料操作;
人工上料预留工位单元(102),所述人工上料预留工位单元(102)用于人工手动上料或自动上料临时投洗暂存;
第一自动搬送单元(103),所述第一自动搬送单元(103)配置单层或多层搬送手臂,用于搬送多尺寸待清洗掩模版;
第一掩模版ID读取单元(104),所述第一掩模版ID读取单元(104)用于读取待清洗掩模版膜层信息,并将待清洗掩模版膜层信息上传并进行区分;
第一掩模版宏观检测单元(105),所述第一掩模版宏观检测单元(105)用于对待清洗掩模版外观宏观检测、拍照、判定并记录,对于待清洗掩模版外观宏观检测来料异常进行判定报警,通过所述第一自动搬送单元(103)搬送至所述人工上料预留工位单元(102)暂存,对于待清洗掩模版外观宏观检测判断正常,由所述第一自动搬送单元(103)搬送至下一工序;
第一掩模版翻转单元(106),所述第一掩模版翻转单元(106)用于接收所述第一自动搬送单元(103)搬送待清洗掩模版,并将待清洗掩模版由水平状态翻转至竖直状态或预设倾斜角度。
3.根据权利要求2所述的一种MicroOLED高精度蒸镀掩模版多阶段清洗系统,其特征在于:所述掩模版下料机构(3)包括第二掩模版翻转单元(301),所述第二掩模版翻转单元(301)用于接收所述第三悬侧搬送单元(2073)搬送的清洗后掩模版,并将清洗后掩模版由竖直状态或预设倾斜角度翻转至水平状态或预设角度;
第二自动搬送单元(302),所述第二自动搬送单元(302)配置单层或多层搬送手臂,用于搬送多尺寸清洗后掩模版;
第二掩模版ID读取单元(303),所述第二掩模版ID读取单元(303)用于读取清洗后掩模版膜层信息,并复判清洗后掩模版膜层信息与自动账料信息匹配性;
第二掩模版宏观检测单元(304),所述第二掩模版宏观检测单元(304)用于对清洗后掩模版外观宏观检测、拍照、判定并记录,对于清洗后掩模版外观宏观检测表面水痕、划伤进行判定报警,通过所述第二自动搬送单元(302)搬送至人工下料预留工位单元(305)暂存,对于清洗后掩模版外观宏观检测判断正常,由所述第二自动搬送单元(302)搬送至下一工序;
人工下料预留工位单元(305),所述人工下料预留工位单元(305)用于人工手动下料或自动下料临时投洗暂存;
自动下料工位单元(306),所述自动下料工位单元(306)配置掩模版传送盒或卡匣,所述自动下料工位单元(306)通过掩模版传送盒或卡匣实现清洗后掩模版自动下料操作。
4.根据权利要求3所述的一种MicroOLED高精度蒸镀掩模版多阶段清洗系统,其特征在于:所述掩模版悬臂输送清洗单元(201)为与所述第一悬侧搬送单元(2071)相适配的喷淋清洗机构或浸泡超声清洗机构,待所述第一悬侧搬送单元(2071)清洗后通过静态流体干燥机构或动态流体干燥机构进行干燥处理;
其中流体介质为干燥CDA、干燥N2或干燥PN2。
5.根据权利要求4所述的一种MicroOLED高精度蒸镀掩模版多阶段清洗系统,其特征在于:所述第一有机膜材清洗单元(2021)和所述第二有机膜材清洗单元(2022)配置相同,且所述第一有机膜材清洗单元(2021)为双侧淋雾清洗机构、单侧淋雾清洗机构、浸渍清洗机构或淋雾浸渍清洗机构;
其中,双侧淋雾清洗机构、单侧淋雾清洗机构和淋雾浸渍清洗机构的淋雾方式为掩膜版网面多点扇形或圆形状雾化辐射,根据掩膜版Aum厚度选择喷淋流量范围0‑1.2A*bLPM,b为单位膜厚系数,系数范围为0.1‑1,喷淋温度范围20‑65℃;
浸渍清洗机构和淋雾浸渍清洗机构的浸渍方式为鼓泡浪涌或复频自矫超声空化,鼓泡浪涌流体介质为干燥PN2或CDA;
复频自矫超声空化的频率根据膜层厚度及颗粒物粒径要求进行选择:
0.2um‑50um+粒径异物:复频自矫超声空化频率区间为40/80/120/170Khz组合;
0.5um‑50um+粒径异物:复频自矫超声空化频率区间为40/80/120Khz组合;
5um‑50um+粒径异物:复频自矫超声空化频率区间为40/80Khz或25/40/80Khz组合;
0.1‑0.3um范围颗粒,复频自矫超声空化频率区间200‑1000kHz;
根据复频自矫超声空化最大功率范围结合清洗槽体空间溶剂计算,计算公式为:复频自矫超声空化需求最大功率=清洗槽体容积L*换能参数B*清洗产品安全系数S;
所述第一快排冲洗单元(2023)的冲洗方式为雾化喷淋、快排和鼓泡;
所述金属清洗单元(2031)和所述第一有机膜材清洗单元(2021)的配置相同,所述金属清洗单元(2031)的清洗溶剂为酸性清洗剂或碱性清洗剂;
所述第二快排冲洗单元(2032)和所述第一快排冲洗单元(2023)配置相同;
所述金属氧化物清洗单元(2041)和所述第一有机膜材清洗单元(2021)的配置相同,所述金属氧化物清洗单元(2041)的清洗溶剂为酸性清洗剂或碱性清洗剂;
所述第三快排冲洗单元(2042)和所述第一快排冲洗单元(2023)配置相同。
6.根据权利要求5所述的一种MicroOLED高精度蒸镀掩模版多阶段清洗系统,其特征在于:所述第一漂洗单元(2024)包括漂洗槽体(20241)、槽体自清洁喷淋组件(20242)、溢流循环出口(20243)、溢流快排出口(20244)、鼓泡管线组件(20245)、快排接口(20246)、感温热电阻(20247)、超声波振盒(20248)和清洗溶剂进液口(20249);
所述槽体自清洁喷淋组件(20242)设置在所述漂洗槽体(20241)内侧上部侧壁上,所述溢流循环出口(20243)设置在所述漂洗槽体(20241)的上部,所述溢流快排出口(20244)设置在所述漂洗槽体(20241)上对应所述溢流循环出口(20243)的下方,所述鼓泡管线组件(20245)设置在所述漂洗槽体(20241)的下部,所述快排接口(20246)设置在所述漂洗槽体(20241)的底部,所述感温热电阻(20247)设置在所述漂洗槽体(20241)的下部,所述超声波振盒(20248)设置在所述漂洗槽体(20241)的内部底部,所述清洗溶剂进液口(20249)设置在所述漂洗槽体(20241)的下部。
7.根据权利要求6所述的一种MicroOLED高精度蒸镀掩模版多阶段清洗系统,其特征在于:所述第二漂洗单元(2051)、所述第三漂洗单元(2054)和所述第一漂洗单元(2024)的配置相同;
所述微粒去除清洗单元(2052)和所述第一有机膜材清洗单元(2021)的配置相同;
所述第四快排冲洗单元(2053)和所述第三快排冲洗单元(2042)的配置相同。
8.根据权利要求7所述的一种MicroOLED高精度蒸镀掩模版多阶段清洗系统,其特征在于:所述第一干燥单元(2061)和所述第二干燥单元(2062)的配置相同,所述第一干燥单元(2061)为红外热管干燥机构、真空干燥机构和热N2吹扫破真空机构。
9.一种MicroOLED高精度掩模版清洗方法,应用于权利要求8所述的一种MicroOLED高精度蒸镀掩模版多阶段清洗系统,其特征在于,包括如下步骤:S1、待清洗掩膜版上料:
S1.1:首先自动上料工位单元(101)上通过掩模版传送盒或卡匣载着待清洗掩膜版,并发送上料信息给清洗控制主机,清洗控制主机核对账料信息后,待清洗掩膜版开始上料;
S1.2:第一自动搬送单元(103)搬送待清洗掩膜版至第一掩模版ID读取单元(104),第一掩模版ID读取单元(104)读取待清洗掩膜版ID,确认账料信息;
S1.3:待第一掩模版ID读取单元(104)核对确认后,待清洗掩膜版通过第一自动搬送单元(103)搬送至第一掩模版宏观检测单元(105),检测待清洗掩膜版是否存在来料损伤或其它不良,并进行自动或人工判定;
S1.4:经判定后,待清洗掩膜版外观检测NG,通过第一自动搬送单元(103)搬送判断NG的待清洗掩膜版至人工上料预留工位单元(102)暂存;
S1.5:经判定后,待清洗掩膜版外观检测OK,通过第一自动搬送单元(103)搬送判断OK的待清洗掩膜版至第一掩模版翻转单元(106),由第一掩模版翻转单元(106)将待清洗掩膜版翻转至竖直状态或预设倾斜角度;
S2、掩膜版清洗:
S2.1:首先通过掩模版悬臂输送清洗单元(201)对第一悬侧搬送单元(2071)清洗并干燥处理;
S2.2:根据待清洗掩膜版的膜材,通过第一悬侧搬送单元(2071)将竖直状态或预设倾斜角度的待清洗掩膜版搬送至掩模版有机膜材清洗区(202)、掩模版金属膜材清洗区(203)或掩模版氧化物膜材清洗区(204)进行不同膜材清洗,去除掩膜版表面残留的大部分溶剂及部分颗粒物;
S2.3:接着通过第一悬侧搬送单元(2071)将掩膜版搬送至第二漂洗单元(2051),进一步去除其它颗粒物,再通过第二悬侧搬送单元(2072)将掩膜版搬送至微粒去除清洗单元(2052)、第四快排冲洗单元(2053)和第三漂洗单元(2054),清洗去除掩膜版表面细小微粒、部分胶质、残留小部分溶剂及0.1um以上微粒;
S2.4:接着通过第二悬侧搬送单元(2072)将掩膜版搬送至第一干燥单元(2061)和第二干燥单元(2062)进行干燥处理;
S3、清洗后掩膜版下料:
S3.1:通过第三悬侧搬送单元(2073)将清洗后掩膜版从第二干燥单元(2062)搬送至第二掩模版翻转单元(301),通过第二掩模版翻转单元(301)将竖直状态或预设倾斜角度的清洗后掩膜版翻转至水平状态;
S3.2:接着由第二自动搬送单元(302)将水平状态的清洗后掩膜版搬送至第二掩模版ID读取单元(303),复判清洗后掩膜版的账料信息和次序;
S3.3:接着由第二自动搬送单元(302)将清洗后掩膜版搬送至第二掩模版宏观检测单元(304),通过第二掩模版宏观检测单元(304)对清洗后掩膜版进行外观检测是否新增损伤或不良;
S3.4:经判定后,新增损伤或不良判定NG,由第二自动搬送单元(302)将判定NG的清洗后掩膜版搬送至人工下料预留工位单元(305)暂存;
S3.5:经判定后,无损伤或不良,判定OK,由第二自动搬送单元(302)将判定OK的清洗后掩膜版搬送至自动下料工位单元(306),掩膜版清洗完成。 说明书 : 一种MicroOLED高精度蒸镀掩模版多阶段清洗系统及清洗
方法技术领域[0001] 本发明属于MicroOLED掩模版清洗技术领域,具体涉及一种MicroOLED高精度蒸镀掩模版多阶段清洗系统及清洗方法。背景技术[0002] MicroOLED掩模版清洗设备用于去除晶圆蒸镀掩膜版网面可能存在的杂质和膜层材料,洗净后再周期重复使用,因而对掩膜版清洗效果有着较高的要求,进而避免杂质影响精密显示屏体良率和产品性能,目前,随着微显示产品制造工艺先进程度的持续提升,对晶圆掩膜版表面污染物的控制要求不断提高,现阶段掩膜版在清洗过程中,现有的槽体清洗方式主要为单频超声+自循环滤芯过滤式槽式清洗,存在以下问题:[0003] 1、单一清洗超声配置/清洗方式配置,祛除微粒区间单一不全面,清洗效果达不到要求;[0004] 2、清洗效果容易受到EVA下料机来料异物颗粒(如金属、纤维等)的影响,同时部分残留在清洗槽体内壁或溶剂中的异物颗粒经正常的槽体自循环无法去除,增加了污染后续生产投入掩模版的风险;[0005] 3、同时在清洗剂溶解足够多的脏污成分或刚进行清洗剂更换后,槽体中存在聚集或悬浮的半透明、胶状、管状残留物质,容易沾染至新清洗掩模版,增加清洗后检修难度甚至无法修复,增加造成部分产品不良的风险;[0006] 随着高价值显示需求的日益增长,对高精密掩膜版清洗后的颗粒管控的要求也进一步提高,迫切需求高效稳定的高精度掩膜版清洗技术,为此我们提出一种MicroOLED高精度蒸镀掩模版多阶段清洗系统及清洗方法。发明内容[0007] 本发明的目的在于提供一种MicroOLED高精度蒸镀掩模版多阶段清洗系统及清洗方法,以解决上述背景技术中提出的问题。[0008] 为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种MicroOLED高精度蒸镀掩模版多阶段清洗系统,包括[0009] 掩模版上料机构,所述掩模版上料机构用于将待清洗掩模版上料输送至下一清洗工序;[0010] 掩模版清洗机构,所述掩模版清洗机构用于接收所述掩模版上料机构上料的待清洗掩模版,并对待清洗掩模版进行多阶段、多层次清洗,获得洗净后的掩模版;[0011] 掩模版下料机构,所述掩模版下料机构用于将洗净后的掩模版输送至下一工序。[0012] 优选的,所述掩模版上料机构包括[0013] 自动上料工位单元,所述自动上料工位单元配置掩模版传送盒或卡匣,所述自动上料工位单元通过掩模版传送盒或卡匣实现待清洗掩模版自动上料操作;[0014] 人工上料预留工位单元,所述人工上料预留工位单元用于人工手动上料或自动上料临时投洗暂存;[0015] 第一自动搬送单元,所述第一自动搬送单元配置单层或多层搬送手臂,用于搬送多尺寸待清洗掩模版;[0016] 第一掩模版ID读取单元,所述第一掩模版ID读取单元用于读取待清洗掩模版膜层信息,并将待清洗掩模版膜层信息上传并进行区分;[0017] 第一掩模版宏观检测单元,所述第一掩模版宏观检测单元用于对待清洗掩模版外观宏观检测、拍照、判定并记录,对于待清洗掩模版外观宏观检测来料异常进行判定报警,通过所述第一自动搬送单元搬送至所述人工上料预留工位单元暂存,对于待清洗掩模版外观宏观检测判断正常,由所述第一自动搬送单元搬送至下一工序;[0018] 第一掩模版翻转单元,所述第一掩模版翻转单元用于接收所述第一自动搬送单元搬送待清洗掩模版,并将待清洗掩模版由水平状态翻转至竖直状态或预设倾斜角度。[0019] 优选的,所述掩模版清洗机构包括[0020] 掩模版悬臂输送清洗单元,所述掩模版悬臂输送清洗单元用于对悬臂输送单元进行清洗和干燥处理;[0021] 掩模版有机膜材清洗区,所述掩模版有机膜材清洗区包括第一有机膜材清洗单元、第二有机膜材清洗单元、第一快排冲洗单元和第一漂洗单元,所述第一有机膜材清洗单元、所述第二有机膜材清洗单元、所述第一快排冲洗单元和所述第一漂洗单元依次设置;[0022] 掩模版金属膜材清洗区,所述掩模版金属膜材清洗区包括金属清洗单元和第二快排冲洗单元,所述金属清洗单元和所述第二快排冲洗单元依次设置;[0023] 掩模版氧化物膜材清洗区,所述掩模版氧化物膜材清洗区包括金属氧化物清洗单元和第三快排冲洗单元,所述金属氧化物清洗单元和所述第三快排冲洗单元依次设置;[0024] 掩模版浸润深度清洗区,所述掩模版浸润深度清洗区包括第二漂洗单元、微粒去除清洗单元、第四快排冲洗单元和第三漂洗单元,所述第二漂洗单元、所述微粒去除清洗单元、所述第四快排冲洗单元和所述第三漂洗单元依次设置;[0025] 掩模版去水干燥区,所述掩模版去水干燥区包括第一干燥单元和第二干燥单元,所述第一干燥单元和所述第二干燥单元依次设置;[0026] 悬臂输送单元,所述悬臂输送单元包括第一悬侧搬送单元、第二悬侧搬送单元和第三悬侧搬送单元,所述第一悬侧搬送单元设置在所述掩模版悬臂输送清洗单元和所述掩模版浸润深度清洗区之间,所述第二悬侧搬送单元设置在所述掩模版浸润深度清洗区和所述掩模版去水干燥区之间,所述第三悬侧搬送单元设置在所述掩模版去水干燥区和所述掩模版下料机构之间。[0027] 优选的,所述掩模版下料机构包括[0028] 第二掩模版翻转单元,所述第二掩模版翻转单元用于接收所述第三悬侧搬送单元搬送的清洗后掩模版,并将清洗后掩模版由竖直状态或预设倾斜角度翻转至水平状态或预设角度;[0029] 第二自动搬送单元,所述第二自动搬送单元配置单层或多层搬送手臂,用于搬送多尺寸清洗后掩模版;[0030] 第二掩模版ID读取单元,所述第二掩模版ID读取单元用于读取清洗后掩模版膜层信息,并复判清洗后掩模版膜层信息与自动账料信息匹配性;[0031] 第二掩模版宏观检测单元,所述第二掩模版宏观检测单元用于对清洗后掩模版外观宏观检测、拍照、判定并记录,对于清洗后掩模版外观宏观检测表面水痕、划伤进行判定报警,通过所述第二自动搬送单元搬送至人工下料预留工位单元暂存,对于清洗后掩模版外观宏观检测判断正常,由所述第二自动搬送单元搬送至下一工序;[0032] 人工下料预留工位单元,所述人工下料预留工位单元用于人工手动下料或自动下料临时投洗暂存;[0033] 自动下料工位单元,所述自动下料工位单元配置掩模版传送盒或卡匣,所述自动下料工位单元通过掩模版传送盒或卡匣实现清洗后掩模版自动下料操作。[0034] 优选的,所述掩模版悬臂输送清洗单元为与所述第一悬侧搬送单元相适配的喷淋清洗机构或浸泡超声清洗机构,待所述第一悬侧搬送单元清洗后通过静态流体干燥机构或动态流体干燥机构进行干燥处理;[0035] 其中流体介质为干燥CDA、干燥N2或干燥PN2。[0036] 优选的,所述第一有机膜材清洗单元和所述第二有机膜材清洗单元配置相同,且所述第一有机膜材清洗单元为双侧淋雾清洗机构、单侧淋雾清洗机构、浸渍清洗机构或淋雾浸渍清洗机构;[0037] 其中,双侧淋雾清洗机构、单侧淋雾清洗机构和淋雾浸渍清洗机构的淋雾方式为掩膜版网面多点扇形或圆形状雾化辐射,根据掩膜版Aum选择喷淋流量范围0‑1.2A*bLPM,b为单位膜厚系数,系数范围为0.1‑1,喷淋温度范围20‑65℃;[0038] 浸渍清洗机构和淋雾浸渍清洗机构的浸渍方式为鼓泡浪涌或复频自矫超声空化,鼓泡浪涌流体介质为干燥PN2或CDA;[0039] 复频自矫超声空化的频率根据膜层厚度及颗粒物粒径要求进行选择:[0040] 0.2um‑50um+粒径异物:复频自矫超声空化频率区间为40/80/120/170Khz组合;[0041] 0.5um‑50um+粒径异物:复频自矫超声空化频率区间为40/80/120Khz组合;[0042] 5um‑50um+粒径异物:复频自矫超声空化频率区间为40/80Khz或25/40/80Khz组合;[0043] 0.1‑0.3um范围颗粒,复频自矫超声空化频率区间200‑1000kHz;[0044] 根据复频自矫超声空化最大功率范围结合清洗槽体空间溶剂计算,计算公式为:复频自矫超声空化需求最大功率=清洗槽体容积L*换能参数B*清洗产品安全系数S;[0045] 所述第一快排冲洗单元的冲洗方式为雾化喷淋、快排、鼓泡和可选风刀;[0046] 所述金属清洗单元和所述第一有机膜材清洗单元的配置相同,所述金属清洗单元的清洗溶剂为酸性清洗剂或碱性清洗剂;[0047] 所述第二快排冲洗单元和所述第一快排冲洗单元配置相同;[0048] 所述金属氧化物清洗单元和所述第一有机膜材清洗单元的配置相同,所述金属氧化物清洗单元的清洗溶剂为酸性清洗剂或碱性清洗剂;[0049] 所述第三快排冲洗单元和所述第一快排冲洗单元配置相同。[0050] 优选的,所述第一漂洗单元包括漂洗槽体、槽体自清洁喷淋组件、溢流循环出口、溢流快排出口、鼓泡管线组件、快排接口、感温热电阻、超声波振盒和清洗溶剂进液口;[0051] 所述槽体自清洁喷淋组件设置在所述漂洗槽体内侧上部侧壁上,所述溢流循环出口设置在所述漂洗槽体的上部,所述溢流快排出口设置在所述漂洗槽体上对应所述溢流循环出口的下方,所述鼓泡管线组件设置在所述漂洗槽体的下部,所述快排接口设置在所述漂洗槽体的底部,所述感温热电阻设置在所述漂洗槽体的下部,所述超声波振盒设置在所述漂洗槽体的内部底部,所述清洗溶剂进液口设置在所述漂洗槽体的下部。[0052] 优选的,所述第二漂洗单元、所述第三漂洗单元和所述第一漂洗单元的配置相同;[0053] 所述微粒去除清洗单元和所述第一有机膜材清洗单元的配置相同;[0054] 所述第四快排冲洗单元和所述第三快排冲洗单元的配置相同。[0055] 优选的,所述第一干燥单元和所述第二干燥单元的配置相同,所述第一干燥单元为红外热管干燥机构、真空干燥机构和热N2吹扫破真空机构。[0056] 一种MicroOLED高精度掩模版清洗方法,应用于一种MicroOLED高精度蒸镀掩模版多阶段清洗系统,包括如下步骤:[0057] S1、待清洗掩膜版上料:[0058] S1.1:首先自动上料工位单元上通过掩模版传送盒或卡匣载着待清洗掩膜版,并发送上料信息给清洗控制主机,清洗控制主机核对账料信息后,待清洗掩膜版开始上料;[0059] S1.2:第一自动搬送单元搬送待清洗掩膜版至第一掩模版ID读取单元,第一掩模版ID读取单元读取待清洗掩膜版ID,确认账料信息;[0060] S1.3:待第一掩模版ID读取单元核对确认后,待清洗掩膜版通过第一自动搬送单元搬送至第一掩模版宏观检测单元,检测待清洗掩膜版是否存在来料损伤或其它不良,并进行自动或人工判定;[0061] S1.4:经判定后,待清洗掩膜版外观检测NG,通过第一自动搬送单元搬送判断NG的待清洗掩膜版至人工上料预留工位单元暂存;[0062] S1.5:经判定后,待清洗掩膜版外观检测OK,通过第一自动搬送单元搬送判断OK的待清洗掩膜版至第一掩模版翻转单元,由第一掩模版翻转单元将待清洗掩膜版翻转至竖直状态或预设倾斜角度;[0063] S2、掩膜版清洗:[0064] S2.1:首先通过掩模版悬臂输送清洗单元对第一悬侧搬送单元清洗并干燥处理;[0065] S2.2:根据待清洗掩膜版的膜材,通过第一悬侧搬送单元将竖直状态或预设倾斜角度的待清洗掩膜版搬送至掩模版有机膜材清洗区、掩模版金属膜材清洗区或掩模版氧化物膜材清洗区进行不同膜材清洗,去除掩膜版表面残留的大部分溶剂及部分颗粒物;[0066] S2.3:接着通过第一悬侧搬送单元将掩膜版搬送至第二漂洗单元,进一步去除其它颗粒物,再通过第二悬侧搬送单元将掩膜版搬送至微粒去除清洗单元、第四快排冲洗单元和第三漂洗单元,清洗去除掩膜版表面细小微粒、部分胶质、残留小部分溶剂及0.1um以上微粒;[0067] S2.4:接着通过第二悬侧搬送单元将掩膜版搬送至第一干燥单元和第二干燥单元进行干燥处理;[0068] S3、清洗后掩膜版下料:[0069] S3.1:通过第三悬侧搬送单元将清洗后掩膜版从第二干燥单元搬送至第二掩模版翻转单元,通过第二掩模版翻转单元将竖直状态或预设倾斜角度的清洗后掩膜版翻转至水平状态;[0070] S3.2:接着由第二自动搬送单元将水平状态的清洗后掩膜版搬送至第二掩模版ID读取单元,复判清洗后掩膜版的账料信息和次序;[0071] S3.3:接着由第二自动搬送单元将清洗后掩膜版搬送至第二掩模版宏观检测单元,通过第二掩模版宏观检测单元对清洗后掩膜版进行外观检测是否新增损伤或不良;[0072] S3.4:经判定后,新增损伤或不良判定NG,由第二自动搬送单元将判定NG的清洗后掩膜版搬送至人工下料预留工位单元暂存;[0073] S3.5:经判定后,无损伤或不良,判定OK,由第二自动搬送单元将判定OK的清洗后掩膜版搬送至自动下料工位单元,掩膜版清洗完成。[0074] 与现有技术相比,本发明的有益效果是:[0075] 1、本发明设有掩模版有机膜材清洗区、掩模版金属膜材清洗区、掩模版氧化物膜材清洗区、掩模版浸润深度清洗区、掩模版去水干燥区和悬臂输送单元,能够对不同膜材的掩膜版进行清洗,并结合多种清洗方式,对掩膜版的表面、内层进行有效清洗,根据需求定制多频段超声波全面幅频率,分区间分阶段去除不同粒径异物,全面提升掩膜版的清洗效果,解决异物残留造成掩膜版不良的问题,提高掩膜版的产品质量;[0076] 2、本发明设有掩模版上料机构和掩模版下料机构,能够对清洗前后的掩膜版进行自动上下料,并对掩膜版信息进行核对,以及对掩膜版的外观进行检测,直接剔除掩膜版外观不良品,避免掩膜版不良品进入清洗阶段或流入良品掩膜版中,提高掩膜版的合格率;[0077] 3、本发明根据复频自矫超声空化最大功率范围结合清洗槽体空间溶剂计算,获得复频自矫超声空化需求最大功率=清洗槽体容积L*换能参数B*清洗产品安全系数S的计算公式,在满足清洗效果的同时避免对掩膜版产生损伤,保障清洗过程中掩膜版的保护效果。附图说明[0078] 图1为本发明的系统结构示意图;[0079] 图2为本发明的第一漂洗单元的立体结构示意图;[0080] 图3为本发明的第一漂洗单元的立体结构示意图;[0081] 图4为本发明的第一漂洗单元的流体清洗效果仿真示意图;[0082] 图5为本发明的第一漂洗单元中的流体介质的速度‑行程曲线图。[0083] 图中:1、掩模版上料机构;101、自动上料工位单元;102、人工上料预留工位单元;103、第一自动搬送单元;104、第一掩模版ID读取单元;105、第一掩模版宏观检测单元;106、第一掩模版翻转单元;2、掩模版清洗机构;201、掩模版悬臂输送清洗单元;202、掩模版有机膜材清洗区;2021、第一有机膜材清洗单元;2022、第二有机膜材清洗单元;2023、第一快排冲洗单元;2024、第一漂洗单元;20241、漂洗槽体;20242、槽体自清洁喷淋组件;20243、溢流循环出口;20244、溢流快排出口;20245、鼓泡管线组件;20246、快排接口;20247、感温热电阻;20248、超声波振盒;20249、清洗溶剂进液口;203、掩模版金属膜材清洗区;2031、金属清洗单元;2032、第二快排冲洗单元;204、掩模版氧化物膜材清洗区;2041、金属氧化物清洗单元;2042、第三快排冲洗单元;205、掩模版浸润深度清洗区;2051、第二漂洗单元;2052、微粒去除清洗单元;2053、第四快排冲洗单元;2054、第三漂洗单元;206、掩模版去水干燥区;2061、第一干燥单元;2062、第二干燥单元;207、悬臂输送单元;2071、第一悬侧搬送单元;2072、第二悬侧搬送单元;2073、第三悬侧搬送单元;3、掩模版下料机构;301、第二掩模版翻转单元;302、第二自动搬送单元;303、第二掩模版ID读取单元;304、第二掩模版宏观检测单元;305、人工下料预留工位单元;306、自动下料工位单元。具体实施方式[0084] 下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。[0085] 请参阅图1‑图3,本发明提供的MicroOLED高精度蒸镀掩模版多阶段清洗系统,包括[0086] 掩模版上料机构1,掩模版上料机构1用于将待清洗掩模版上料输送至下一清洗工序;[0087] 掩模版上料机构1包括自动上料工位单元101,自动上料工位单元101配置掩模版传送盒或卡匣,自动上料工位单元101通过掩模版传送盒或卡匣实现待清洗掩模版自动上料操作;[0088] 人工上料预留工位单元102,人工上料预留工位单元102用于人工手动上料或自动上料临时投洗暂存;[0089] 第一自动搬送单元103,第一自动搬送单元103配置单层或多层搬送手臂,用于搬送多尺寸待清洗掩模版;[0090] 第一掩模版ID读取单元104,第一掩模版ID读取单元104用于读取待清洗掩模版膜层信息,并将待清洗掩模版膜层信息上传并进行区分;[0091] 第一掩模版宏观检测单元105,第一掩模版宏观检测单元105用于对待清洗掩模版外观宏观检测、拍照、判定并记录,对于待清洗掩模版外观宏观检测来料异常进行判定报警,通过第一自动搬送单元103搬送至人工上料预留工位单元102暂存,对于待清洗掩模版外观宏观检测判断正常,由第一自动搬送单元103搬送至下一工序;[0092] 第一掩模版翻转单元106,第一掩模版翻转单元106用于接收第一自动搬送单元103搬送待清洗掩模版,并将待清洗掩模版由水平状态翻转至竖直状态或预设倾斜角度;[0093] 掩模版清洗机构2,掩模版清洗机构2用于接收掩模版上料机构1上料的待清洗掩模版,并对待清洗掩模版进行多阶段、多层次清洗,获得洗净后的掩模版;[0094] 掩模版清洗机构2包括掩模版悬臂输送清洗单元201,掩模版悬臂输送清洗单元201用于对悬臂输送单元207进行清洗和干燥处理,掩模版悬臂输送清洗单元201为与第一悬侧搬送单元2071相适配的喷淋清洗机构或浸泡超声清洗机构,待第一悬侧搬送单元2071清洗后通过静态流体干燥机构或动态流体干燥机构进行干燥处理;其中流体介质为干燥CDA、干燥N2或干燥PN2;[0095] 掩模版有机膜材清洗区202,掩模版有机膜材清洗区202包括第一有机膜材清洗单元2021、第二有机膜材清洗单元2022、第一快排冲洗单元2023和第一漂洗单元2024,第一有机膜材清洗单元2021、第二有机膜材清洗单元2022、第一快排冲洗单元2023和第一漂洗单元2024依次设置;[0096] 第一有机膜材清洗单元2021和第二有机膜材清洗单元2022配置相同,针对有机膜材材料清洗去除,可选第一有机膜材清洗单元2021串联第二有机膜材清洗单元2022(第一有机膜材清洗单元2021→第二有机膜材清洗单元2022→第一快排冲洗单元2023)、第一有机膜材清洗单元2021并联第二有机膜材清洗单元2022(第一有机膜材清洗单元2021或第二有机膜材清洗单元2022→第一快排冲洗单元2023);串联方式,第一有机膜材清洗单元2021去除60‑80%掩膜版表面附着有机材料,第二有机膜材清洗单元2022去除剩余部分有机材料,预估延长第二有机膜材清洗单元2022清洗溶剂寿命15%以上;并联方式,可提高清洗设备清洗效率,生产效率提升30%以上,且第一有机膜材清洗单元2021为双侧淋雾清洗机构、单侧淋雾清洗机构、浸渍清洗机构或淋雾浸渍清洗机构;[0097] 其中,双侧淋雾清洗机构、单侧淋雾清洗机构和淋雾浸渍清洗机构的淋雾方式为掩膜版网面多点扇形或圆形状雾化辐射,根据掩膜版Aum(掩膜版厚度为参数A,单位um)选择喷淋流量范围0‑1.2A*bLPM,b为单位膜厚系数,系数范围为0.1‑1,喷淋温度范围20‑65℃;[0098] 浸渍清洗机构和淋雾浸渍清洗机构的浸渍方式为鼓泡浪涌或复频自矫超声空化,鼓泡浪涌流体介质为干燥PN2或CDA;[0099] 复频自矫超声空化的频率根据膜层厚度及颗粒物粒径要求进行选择:[0100] 0.2um‑50um+粒径异物:复频自矫超声空化频率区间为40/80/120/170Khz组合;[0101] 0.5um‑50um+粒径异物:复频自矫超声空化频率区间为40/80/120Khz组合;[0102] 5um‑50um+粒径异物:复频自矫超声空化频率区间为40/80Khz或25/40/80Khz组合;[0103] 0.1‑0.3um范围颗粒,复频自矫超声空化频率区间200‑1000kHz;[0104] 根据复频自矫超声空化最大功率范围结合清洗槽体空间溶剂计算,计算公式为:复频自矫超声空化需求最大功率=清洗槽体容积L*换能参数B*清洗产品安全系数S;[0105] 以掩膜版为例,换能参数B:(5/10/20)或A(网面厚度,单位um)/20W/L;安全系数S结合精密掩膜版特性,参数优选范围为:0.5±0.15/0.7±0.15/0.9±0.15;[0106] 12英寸MicroOLED用掩膜版为例,依据产品尺寸及产能需求单槽体片数需求槽体容积150L,网面厚度100um,换能系数优选5W/L,安全系数优选:0.7±0.15,取0.7,优选最大功率=150L*5W/L*0.7=525W,可选500W;750kHZ以上频率超声(兆生),优选最大功率=能量衰减补偿系数a*槽体容积L*换能参数B*清洗产品安全系数S,a优选2 3;~[0107] 本发明根据复频自矫超声空化最大功率范围结合清洗槽体空间溶剂计算,获得复频自矫超声空化需求最大功率=清洗槽体容积L*换能参数B*清洗产品安全系数S的计算公式,在满足清洗效果的同时避免对掩膜版产生损伤,保障清洗过程中掩膜版的保护效果;[0108] 第一快排冲洗单元2023的冲洗方式为雾化喷淋、快排和鼓泡,且第一快排冲洗单元2023可选风刀功能,可选风刀可设置在掩膜版顶面或对应复杂沟槽位置,作用为:减少本槽体制程掩膜版顶面或沟槽位置残留液滴大小,增强后续槽体制程清洗祛除前段溶剂效果;[0109] 掩模版金属膜材清洗区203,掩模版金属膜材清洗区203包括金属清洗单元2031和第二快排冲洗单元2032,金属清洗单元2031和第二快排冲洗单元2032依次设置;[0110] 金属清洗单元2031和第一有机膜材清洗单元2021的配置相同,金属清洗单元2031的清洗溶剂为酸性清洗剂(乙酸,优选浓度≤10%并掺杂部分氧化清洗剂等,避免掺杂强酸性离子,如Cl、F等)或碱性清洗剂(优选KOH);[0111] 第二快排冲洗单元2032和第一快排冲洗单元2023配置相同,有效冲洗去除掩膜版表面残留的金属清洗单元2031中的清洗溶剂;[0112] 掩模版氧化物膜材清洗区204,掩模版氧化物膜材清洗区204包括金属氧化物清洗单元2041和第三快排冲洗单元2042,金属氧化物清洗单元2041和第三快排冲洗单元2042依次设置;[0113] 金属氧化物清洗单元2041和第一有机膜材清洗单元2021的配置相同,金属氧化物清洗单元2041的清洗溶剂为酸性清洗剂或碱性清洗剂;[0114] 第三快排冲洗单元2042和第一快排冲洗单元2023配置相同;[0115] 掩模版浸润深度清洗区205,掩模版浸润深度清洗区205包括第二漂洗单元2051、微粒去除清洗单元2052、第四快排冲洗单元2053和第三漂洗单元2054,第二漂洗单元2051、微粒去除清洗单元2052、第四快排冲洗单元2053和第三漂洗单元2054依次设置;[0116] 第二漂洗单元2051和第一漂洗单元2024配置相同,同时依据颗粒物去除要求,超声频率优选提升一段,如40kHz→80kHz,80kHz→120kHz或者配置兆生,可近一步去除微颗粒杂质;[0117] 微粒去除清洗单元2052和第一有机膜材清洗单元2021的配置相同,洗净清洗剂优选碱性清洗溶剂,可为一定比例氨水、双氧水、水混合溶剂,也可为一定浓度KOH、双氧水、水或其他清洗剂混合溶剂,在优选温度计超声条件下,附着在掩膜版表面的微粒近一步被剥离去除;[0118] 第四快排冲洗单元2053和第三快排冲洗单元2042的配置相同;[0119] 掩模版去水干燥区206,掩模版去水干燥区206包括第一干燥单元2061和第二干燥单元2062,第一干燥单元2061和第二干燥单元2062依次设置,第一干燥单元2061和第二干燥单元2062的配置相同,且第一干燥单元2061和第二干燥单元2062可选择串联或并联,第一干燥单元2061为红外热管干燥机构、真空干燥机构和热N2吹扫破真空机构,红外热管干燥机构一方面提供干燥腔体环境温度并保持,另一方面实现真空状态下,掩膜版表面小分子水暴沸,在热N2吹扫同步作用下将掩膜版表面水分子全面去除(可选醇类雾化脱水置换与热N2结合方式);[0120] 悬臂输送单元207,悬臂输送单元207包括第一悬侧搬送单元2071、第二悬侧搬送单元2072和第三悬侧搬送单元2073,第一悬侧搬送单元2071设置在掩模版悬臂输送清洗单元201和掩模版浸润深度清洗区205之间,第二悬侧搬送单元2072设置在掩模版浸润深度清洗区205和掩模版去水干燥区206之间,第三悬侧搬送单元2073设置在掩模版去水干燥区206和掩模版下料机构3之间;[0121] 掩模版下料机构3,掩模版下料机构3用于将洗净后的掩模版输送至下一工序,掩模版下料机构3包括第二掩模版翻转单元301,第二掩模版翻转单元301用于接收第三悬侧搬送单元2073搬送的清洗后掩模版,并将清洗后掩模版由竖直状态或预设倾斜角度翻转至水平状态或预设角度;[0122] 第二自动搬送单元302,第二自动搬送单元302配置单层或多层搬送手臂,用于搬送多尺寸清洗后掩模版;[0123] 第二掩模版ID读取单元303,第二掩模版ID读取单元303用于读取清洗后掩模版膜层信息,并复判清洗后掩模版膜层信息与自动账料信息匹配性;[0124] 第二掩模版宏观检测单元304,第二掩模版宏观检测单元304用于对清洗后掩模版外观宏观检测、拍照、判定并记录,对于清洗后掩模版外观宏观检测表面水痕、划伤进行判定报警,通过第二自动搬送单元302搬送至人工下料预留工位单元305暂存,对于清洗后掩模版外观宏观检测判断正常,由第二自动搬送单元302搬送至下一工序;[0125] 人工下料预留工位单元305,人工下料预留工位单元305用于人工手动下料或自动下料临时投洗暂存;[0126] 自动下料工位单元306,自动下料工位单元306配置掩模版传送盒或卡匣,自动下料工位单元306通过掩模版传送盒或卡匣实现清洗后掩模版自动下料操作。[0127] 本发明设有掩模版有机膜材清洗区202、掩模版金属膜材清洗区203、掩模版氧化物膜材清洗区204、掩模版浸润深度清洗区205、掩模版去水干燥区206和悬臂输送单元207,能够对不同膜材的掩膜版进行清洗,并结合多种清洗方式,对掩膜版的表面、内层进行有效清洗,根据需求定制多频段超声波全面幅频率,分区间分阶段去除不同粒径异物,全面提升掩膜版的清洗效果,解决异物残留造成掩膜版不良的问题,提高掩膜版的产品质量;[0128] 本发明设有掩模版上料机构1和掩模版下料机构3,能够对清洗前后的掩膜版进行自动上下料,并对掩膜版信息进行核对,以及对掩膜版的外观进行检测,直接剔除掩膜版外观不良品,避免掩膜版不良品进入清洗阶段或流入良品掩膜版中,提高掩膜版的合格率。[0129] 在本实施例中,如图2和图3所示,第二漂洗单元2051、第三漂洗单元2054和第一漂洗单元2024的配置相同;第一漂洗单元2024包括漂洗槽体20241、槽体自清洁喷淋组件20242、溢流循环出口20243、溢流快排出口20244、鼓泡管线组件20245、快排接口20246、感温热电阻20247、超声波振盒20248和清洗溶剂进液口20249;槽体自清洁喷淋组件20242设置在漂洗槽体20241内侧上部侧壁上,为扇形喷淋组件或阵列喷淋组件,能够有效覆盖漂洗槽体20241内壁表面,维保或换液期间可实现手动或自动冲洗内壁,溢流循环出口20243设置在漂洗槽体20241的上部,溢流洗净管线可配置在线加热器,可对槽体溶剂加热并保持溶剂温度,优选温控精度±1℃,同时溢流洗净管线配置过滤器组件,可滤除槽体内部及溶剂中杂质颗粒,实现溶剂寿命延长及清洗效果提升,溢流快排出口20244设置在漂洗槽体20241上对应溢流循环出口20243的下方,可将部分漂浮杂质微粒携出并排至槽体外,鼓泡管线组件20245设置在漂洗槽体20241的下部,鼓泡组件单独使用,通过溢流或快排方式,将颗粒杂质去除,优选地,鼓泡管线组件配合超声、溢流同时使用,可更高效去除溶剂中悬浮及漂浮颗粒物,快排接口20246设置在漂洗槽体20241的底部,同时配置槽体底面斜面设计,斜面角度优选≥3°,槽体最低点位于快排接口,可有效排空槽体内固体杂质颗粒,感温热电阻20247设置在漂洗槽体20241的下部,可检测槽体内部溶剂温度,超声波振盒20248设置在漂洗槽体20241的内部底部,清洗溶剂进液口20249设置在漂洗槽体20241的下部。[0130] 如图4所示,为第一漂洗单元2024的流体模拟仿真图,图5为第一漂洗单元2024的流体介质速度‑行程曲线图,确定进液流速区间范围及槽体内部支撑结构合理性,避免掩膜版表面涡流产生,进而减少掩膜版损伤风险;优选得槽体底部配置金属颗粒吸附磁棒,可将金属颗粒有效吸附并定期去除。[0131] 本发明提供的MicroOLED高精度掩模版清洗方法,应用于MicroOLED高精度蒸镀掩模版多阶段清洗系统,包括如下步骤:[0132] S1、待清洗掩膜版上料:[0133] S1.1:首先自动上料工位单元101上通过掩模版传送盒或卡匣载着待清洗掩膜版,并发送上料信息给清洗控制主机,清洗控制主机核对账料信息后,待清洗掩膜版开始上料;[0134] S1.2:第一自动搬送单元103搬送待清洗掩膜版至第一掩模版ID读取单元104,第一掩模版ID读取单元104读取待清洗掩膜版ID,确认账料信息;[0135] S1.3:待第一掩模版ID读取单元104核对确认后,待清洗掩膜版通过第一自动搬送单元103搬送至第一掩模版宏观检测单元105,检测待清洗掩膜版是否存在来料损伤或其它不良,并进行自动或人工判定;[0136] S1.4:经判定后,待清洗掩膜版外观检测NG,通过第一自动搬送单元103搬送判断NG的待清洗掩膜版至人工上料预留工位单元102暂存;[0137] S1.5:经判定后,待清洗掩膜版外观检测OK,通过第一自动搬送单元103搬送判断OK的待清洗掩膜版至第一掩模版翻转单元106,由第一掩模版翻转单元106将待清洗掩膜版翻转至竖直状态或预设倾斜角度;[0138] S2、掩膜版清洗:[0139] S2.1:首先通过掩模版悬臂输送清洗单元201对第一悬侧搬送单元2071清洗并干燥处理;[0140] S2.2:根据待清洗掩膜版的膜材,通过第一悬侧搬送单元2071将竖直状态或预设倾斜角度的待清洗掩膜版搬送至掩模版有机膜材清洗区202、掩模版金属膜材清洗区203或掩模版氧化物膜材清洗区204进行不同膜材清洗,去除掩膜版表面残留的大部分溶剂及部分颗粒物;[0141] S2.3:接着通过第一悬侧搬送单元2071将掩膜版搬送至第二漂洗单元2051,进一步去除其它颗粒物,再通过第二悬侧搬送单元2072将掩膜版搬送至微粒去除清洗单元2052、第四快排冲洗单元2053和第三漂洗单元2054,清洗去除掩膜版表面细小微粒、部分胶质、残留小部分溶剂及0.1um以上微粒;[0142] S2.4:接着通过第二悬侧搬送单元2072将掩膜版搬送至第一干燥单元2061和第二干燥单元2062进行干燥处理;[0143] S3、清洗后掩膜版下料:[0144] S3.1:通过第三悬侧搬送单元2073将清洗后掩膜版从第二干燥单元2062搬送至第二掩模版翻转单元301,通过第二掩模版翻转单元301将竖直状态或预设倾斜角度的清洗后掩膜版翻转至水平状态;[0145] S3.2:接着由第二自动搬送单元302将水平状态的清洗后掩膜版搬送至第二掩模版ID读取单元303,复判清洗后掩膜版的账料信息和次序;[0146] S3.3:接着由第二自动搬送单元302将清洗后掩膜版搬送至第二掩模版宏观检测单元304,通过第二掩模版宏观检测单元304对清洗后掩膜版进行外观检测是否新增损伤或不良;[0147] S3.4:经判定后,新增损伤或不良判定NG,由第二自动搬送单元302将判定NG的清洗后掩膜版搬送至人工下料预留工位单元305暂存;[0148] S3.5:经判定后,无损伤或不良,判定OK,由第二自动搬送单元302将判定OK的清洗后掩膜版搬送至自动下料工位单元306,掩膜版清洗完成。[0149] 尽管已经示出和描述了本发明的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。
专利地区:江苏
专利申请日期:2024-06-13
专利公开日期:2024-09-03
专利公告号:CN118321237B