偏光膜的制造方法发明专利

摘要：本发明提供具有高偏光度与高透过率的偏光膜及其制造方法，以及使用该偏光膜而构成的偏光板、光学构件；所述偏光膜利用聚乙烯醇(PVA)系膜，将其经干式单轴多段延伸后，在水洗槽中进行膨润，并在含碘水溶液的染色交联槽中交联染色，再将该膜在含聚乙烯醇交联剂的延伸槽中进行后段延伸，而获得光透过率至少43％，偏光度至少98％的偏光膜。

专利类型：发明专利

专利号：CN200510053760.X

专利申请（专利权）人：力特光电科技股份有限公司

专利发明（设计）人：罗义兴;陈俊雄;刘德厚;郑尧中;张良宝;赖大王;王伯萍;姚淑惠

主权项：1.一种偏光膜的制造方法，其特征在于至少包括如下步骤：利用聚乙烯醇系膜进行干式单轴多段延伸；使经上述延伸后的膜在水中清洗可塑剂并释放应力；在含碘水溶液中进行交联染色并在含聚乙烯醇交联剂的水溶液中进行后段延伸。

专利地区：台湾